Occasion AIBT / ADVANCED ION BEAM TECHNOLOGY iStar 300 #9211571 à vendre en France

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ID: 9211571
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2006
Ion implanter, 12" Wafer type: Notch Wafer per batch: 13 (4) Load ports (2) Cyro pumps: Process chamber: HELIX 350 mm on board Turbo pumps: EDWARDS STP-A2203 WAV EDWARDS STP-451C Dry pumps: EBARA 40*20 EBARA 65*40 EBARA A70W High voltage: Drift mode voltage Low range: 1.0 kV ~ 10.0 kV High range: 10.0 kV ~ 80.0 kV 2006 vintage.
TECHNOLOGIE AIBT/ADVANCED ION BEAM iStar 300 est un implanteur et moniteur ionique à double faisceau conçu pour la fabrication de composants électroniques. AIBT iStar 300 est un outil très efficace qui permet un contrôle précis et l'implantation précise de dopants pour la production de composants semi-conducteurs. Cet implanteur et moniteur d'ions présente un large éventail de caractéristiques, y compris le réglage des courants de faisceau de particules, le contrôle des profils de faisceau, l'optimisation automatique du courant de faisceau, le réglage de la profondeur de l'implant et le réglage de l'émission de surface. TECHNOLOGIE AVANCÉE DE FAISCEAU D'IONS iStar 300 possède une source d'ions puissante capable de générer plusieurs espèces d'ions différentes selon le type de matériau et l'application. Cela permet une large gamme d'implantations incluant le bore, l'arsenic, le phosphore et le thallium. IStar 300 est également équipé d'une pompe à vide avec un débit élevé pour un échange rapide de charges et un manomètre pour un réglage précis des paramètres de l'implant. TECHNOLOGIE AIBT/ADVANCED ION BEAM L'iStar 300 est conçu pour être convivial et il est équipé d'un équipement de recette automatisé qui le rend facile à configurer et surveiller les paramètres d'implantation. AIBT iStar 300 est livré avec une interface utilisateur graphique, permettant de régler facilement des paramètres tels que le courant du faisceau, l'étalement du courant, le profil du faisceau, la convergence du faisceau et la pureté spectrale du faisceau. De plus, cet implant ionique et ce moniteur permettent de régler la profondeur de l'implant et les paramètres d'émission de surface. TECHNOLOGIE AVANCÉE DU FAISCEAU IONIQUE L'iStar 300 est équipé de divers outils de diagnostic, dont un spectromètre à énergie ionique, un système d'imagerie pour la caractérisation des faisceaux, un spectromètre électrique et une unité de mesure de la profondeur ionique. De plus, il est capable de surveiller le courant et le profil du faisceau d'ions à l'aide d'un pilote automatique qui permet une surveillance et un contrôle continus des paramètres de l'implant. Dans l'ensemble, iStar 300 est un implant ionique avancé et un moniteur conçu pour offrir un haut niveau de précision, de précision et de performance pour l'implantation de dopants pour la fabrication de composants électroniques. Il dispose d'une source d'ions puissante qui est capable de générer un certain nombre de types d'implants différents, ainsi que d'une variété d'outils de diagnostic et de surveillance. L'interface graphique permet de configurer et d'ajuster facilement les paramètres d'implantation, ce qui permet aux utilisateurs de tirer le meilleur parti de leur technologie AIBT/ADVANCED ION BEAM iStar 300.
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