Occasion AIBT / ADVANCED ION BEAM TECHNOLOGY iStar #9210937 à vendre en France

TECHNOLOGIE AIBT/ADVANCED ION BEAM iStar est un implanteur et moniteur ionique de haute précision. Il est utilisé pour la fabrication de semi-conducteurs, permettant une intégration précise des ions dans les substrats. Ce processus est crucial pour la production d'électronique de pointe. AIBT iStar utilise un faisceau d'ions horizontal pour implanter des ions dans le substrat. Ce faisceau est généré à l'aide d'une chambre source d'ions et d'un puissant générateur RF. La chambre source d'ions a une tension d'accélérateur réglable et une paire de bobines de déflexion qui permettent un contrôle de précision du faisceau. Le générateur RF utilise une haute tension unique pour générer des faisceaux d'ions très concentrés. Cette concentration élevée donne une précision de dose améliorée, tandis que la tension variable de l'accélérateur offre une large gamme d'énergies de faisceau. TECHNOLOGIE AVANCÉE DE FAISCEAU IONIQUE iStar utilise un système de balayage multi-axes pour permettre un haut degré de flexibilité dans le processus d'implantation. Le système de balayage utilise plusieurs galvanomètres, associés à un contrôleur ultra-rapide, pour s'assurer que le faisceau suit le modèle désiré. IStar comprend également un ensemble d'outils de surveillance avancés qui détectent les changements dans le processus d'implantation ionique. Ceci informe l'opérateur de toute erreur possible, rendant le processus plus fiable. Enfin, la technologie AIBT/ADVANCED ION BEAM iStar contient une grande variété de caractéristiques de sécurité pour protéger les opérateurs et les équipements. Il est équipé d'un système d'arrêt d'urgence qui ferme immédiatement le faisceau d'ions lorsque le danger est détecté, tandis qu'un verrouillage empêche les faisceaux d'énergie élevée d'être libérés sans un cycle de refroidissement approprié. Un filtre de ligne est également contenu pour réduire les risques d'étincelles électriques. En résumé, AIBT iStar est un puissant benchtop ion implanter et surveiller. Il offre un procédé d'implantation précis, flexible et sûr, et est un équipement essentiel pour la fabrication de semi-conducteurs.