Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS 9500xR #293757420 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 9500xR est un équipement d'implantation et de surveillance ionique de haute technologie utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs. Ce système peut être utilisé pour doper, breveter et former des nano-structures à la surface du silicium et d'autres substrats, ce qui le rend idéal pour une fabrication avancée de semi-conducteurs. Cette unité offre une gamme très avancée de capacités telles que le traitement unique et multi-zones, le balayage par faisceau ionique, le courant variable du faisceau, et une machine de surveillance complète. L'outil est livré avec un implanteur haute tension AKT 9500xR et un moniteur AMAT 9500xR. 9500xR L'implanteur haute tension est un implant 3 axes avec une alimentation maximale de 1000V/200A. Il dispose d'une commande de gaz intégrée, d'une station de transfert de vide et de divers modes de balayage, y compris le balayage point et ligne, le balayage raster, le balayage cluster et le balayage champ. Cette machine comprend également le balayage par faisceau ionique, le courant variable du faisceau et le temps d'exposition, la détection de fin de tranchée et la dernière génération de circuits logiques Logic Reset. APPLIED MATERIALS 9500xR Monitor fournit un aperçu détaillé des performances, des paramètres et de l'état du faisceau, permettant aux utilisateurs d'ajuster rapidement les paramètres pour obtenir des performances optimales. L'actif utilise un amplificateur FET à très faible bruit pour une surveillance en temps réel et très précise du courant ionique. La précision accrue évite également l'exposition inutile et indésirable à des particules toxiques. Une interface utilisateur visuelle permet un fonctionnement facile du modèle, permettant un fonctionnement efficace avec un temps d'arrêt minimal. L'équipement AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 9500xR est un système d'implantation et de surveillance ionique très sophistiqué utilisé dans l'industrie de la fabrication de semi-conducteurs. Il est capable de traitement unique et multi-zones, de balayage de faisceau d'ions, de temps d'exposition et de courant de faisceau variable, de détection de fin de tranchée et d'un amplificateur FET à très faible bruit pour assurer une surveillance précise en temps réel du courant d'ions. Son fonctionnement efficace et son interface utilisateur visuelle lui permettent d'être utilisé de manière optimale et de réduire les temps d'arrêt, idéal pour une large gamme de besoins de fabrication de semi-conducteurs.