Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS PI 9500XR #9228574 à vendre en France

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ID: 9228574
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 1996
Ion implanter, 6" Utility gas: (Gas name) / Pressure / Flow rate Ar (Process Ar) / 6.3Kg/cm² / 0.1 SLM PN2 Process Vent) / 4.2Kg/cm³ / 7 SLM GN2 (Pneumatics) / 6.3Kg/cm^4 / 2 SLM Exhaust (Type): Flow rate (CMM) / Size Beamline / 17, 200 mm Ion source / 5.66, 110 mm Fly tube / 5.66, 110 mm (2) Gas boxes / 5.66, 110 mm Back & control / 11.3, 200 mm Cooling water description: Pressure (Kg/cm²) & flow rate temp (« C) & size Main unit: 4.9, 19-5 20~25, 3/4" Heat exchanger: 4.9, 37.8, 20-25, 1 1/4" Cryo compressor: 4.9, 13.5, 20~25, 1/2" Processor module: Front door: Cylinder swing type Flat notch (5) Cassette trays Carousal Cassette indexer Wafer blade Hollow gripper arm Arm position sensor Orienter sensor Cleanroom I/F monitor: TFT & lightpen VME: Mobile cont module Wheel module: Wheel std 25 h/sinks, 6" Si coated Heat sink: 0°C Standard PFS type Advance PFS power supply Standard scan system type Spin system: DD Motor & motec Tilt angle: 0~7°C PFS Gas panel: Ar bleed box HYT Sensor Ferro seal flow meter Source / Terminal module: Ion source: Bernas type (No ovens) No vaporizer Filament P.S Arc P.S Extraction P.S Extraction suppression P.S: Hitek series 1000 Source magnet extended AMU P.S Post acceleration P.S Maximum post voltage: 160 kV Extraction electrode: Dual bellows MRS chamber exhaust Facility module: DI Water resistance control Internal heat exchanger system Facility entry direction: Bottom entry Gas box module: Gas box type (4) gas modules Purge module high pressure (Ar) Gas module 1 HP (BF3) Gas module 2 SDS (SiF4) Gas module 3 SDS Gas module 4 SDS (AsH3) Vacuum system: Source turbo pump: LEYBOLD TMP-11000 C Source turbo controller: LEYBOLD TMP-11000 C MRS Turbo pump: LEYBOLD TMP-301 MRS Turbo controller: LEYBOLD (2) Wheel chamber cryo pumps: CTI Torr-10 on board (2) Cryo compressors: CTI 9600 Beam line dry pump: EBARA A07 V-B Processor dry pump: EBARA 40 x20 (2) Gas box exhaust flow switches (3) Ground lances Drawings / Manuals SECS Function Light tower Cryo pump removal rails Control module Control module: CRT Monitor No alignment tools DI Water digital indication Mains matching transformer: STD Type (STL) Isolation transformer: STD Type (STL) Utility configuration: Maximum extraction voltage: 220 keV Tool specification: Line power Maximum controller power: 85 kVA Circuit breaker: 400 Amp Input power: 203 VAC, 50/60 Hz, 3 Phase+N 1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS PI 9500XR ion implanter and monitor equipment is a state of the art equipment used in the semiconductor industry. Ce système intègre une source avancée de faisceau d'ions qui est conçu pour un contrôle précis de l'énergie, de la dose, du courant et de la largeur d'impulsion, permettant des caractéristiques d'implantation extrêmement précises. Le circuit de contrôle utilisé dans cette unité permet à un utilisateur de surveiller et d'ajuster les paramètres au besoin pendant un processus d'implant. Le 9500XR se compose de trois composants principaux : la source de faisceau d'ions, la machine primaire d'accélération de l'électrode, et le moniteur de faisceau d'ions. La source de faisceau d'ions est optimisée pour une implantation contrôlée avec précision des ions afin de fournir une dose contrôlée et uniforme d'atomes implantés. L'outil primaire à électrode accélératrice est constitué de plusieurs électrodes servant à contrôler les ions et à réguler le courant vers le site d'implantation. Enfin, le moniteur de faisceau d'ions permet de surveiller et d'ajuster en permanence le courant du faisceau d'ions au besoin. La source de faisceau d'ions 9500XR utilise une conception unique à trois plaques qui permet un courant de faisceau total plus élevé et des taux d'implants plus élevés. La source est capable de fonctionner de 1 microampères à 20 kiloampères et fournit des courants de faisceau allant jusqu'à 9 A/cm2. L'actif comprend un dispositif de sélection d'énergie ionique à ouverture réglable pour sélectionner les énergies d'implant désirées. Le modèle primaire d'électrode accélératrice utilise une série d'électrodes « IVG » avec des paramètres variables pour contrôler précisément l'énergie du faisceau et d'autres paramètres. Le circuit de contrôle avancé utilisé dans l'équipement permet à un utilisateur de surveiller et de modifier les paramètres pendant le traitement afin d'assurer l'uniformité souhaitée des ions implantés. En utilisant le système de surveillance du 9500XR, les paramètres d'implant tels que le courant de faisceau, l'énergie, la largeur d'impulsion et la dose peuvent être surveillés en temps réel. L'unité de surveillance dispose également de sondes pour mesurer le courant du faisceau, l'énergie de l'implant et la largeur des impulsions sur le site de l'implant. La machine intègre également des systèmes de contrôle de la rétroaction numérique qui permettent à l'opérateur d'ajuster les paramètres à la volée si nécessaire. Dans l'ensemble, l'implant ionique AMAT PI 9500XR est un outil puissant et polyvalent de contrôle précis des implantations ioniques. Grâce à sa source de faisceau d'ions à trois plaques, à son dispositif de sélection d'énergie ionique à ouverture réglable et à ses circuits de commande avancés, cet atout offre une précision absolue en matière de contrôle de dose et d'implant. Le modèle de moniteur sur site permet aux utilisateurs de surveiller et de modifier les paramètres en temps réel pendant le processus d'implantation. Le 9500XR est un outil inestimable pour obtenir les meilleurs résultats d'implant pour les circuits intégrés.
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