Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Quantum Leap 3 #9192602 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum Leap 3 (QL3) est un implant ionique avancé et un moniteur pour la production de semi-conducteurs. Cette machine combine performances exceptionnelles avec efficacité opérationnelle et économies de coûts. Avec une plage d'énergie maximale de 25 à 400 kiloélectrons volts (keV), le QL3 fournit des résultats d'implantation et de performance très précis. C'est une machine très fiable et robuste, conçue pour un fonctionnement étendu dans un environnement de fabrication en salle blanche. AMAT Quantum Leap 3 est capable de répondre aux besoins de nombreux procédés semi-conducteurs avancés. Il dispose de capacités de haut débit et de manipulations ioniques de précision, associées à une technologie avancée de contrôle de faisceau, pour une efficacité maximale. Le contrôle amélioré du faisceau permet une meilleure stabilité et une meilleure précision, notamment en ce qui concerne l'homogénéité des implants. De plus, la plate-forme hautement configurable permet une optimisation totale de chaque processus implant. Le système d'implantation ionique QL3 est alimenté par une architecture matérielle et logicielle spécialement conçue. L'implanteur est équipé d'un processeur puissant pour des vitesses de traitement rapides de grands ensembles d'instructions et de longs trajets. Le logiciel donne aux opérateurs un contrôle précis des paramètres de l'implant et de la surveillance, leur permettant d'optimiser les paramètres de l'implant pour obtenir les résultats les plus précis. Le QL3 est composé de deux composants distincts, l'implant ionique et le moniteur. L'implanteur ionique est un dispositif haute tension basse pression qui accélère les ions métalliques dans le substrat de la plaquette. Il se compose de plusieurs étages, tels que des électrodes accélératrices, une optique de focalisation, une source de plasma, une source d'ions et un contenant global sous vide. Le moniteur utilise la microscopie à sonde à balayage de pointe pour surveiller et vérifier le processus d'implantation ionique. Enfin, l'implant ionique et le moniteur disposent de capacités diagnostiques avancées. Cela permet une analyse approfondie du processus d'implantation. De plus, ces outils peuvent être utilisés pour la maintenance préventive, l'optimisation des processus et d'autres tâches liées à l'implantation ionique. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le système Quantum Leap 3 assure le plus haut niveau de performance et de fiabilité pour la production de semi-conducteurs.