Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Quantum Leap II #293755366 à vendre en France
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ID: 293755366
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2002
Ion implanter, 12"
Process: Low energy implant
FOUP Factory interface
Quantum leap implanter
NOVAPURE egs237 scrubber
Heat exchanger
CIM
2002 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum Leap II est un implant ionique et moniteur conçu pour le traitement des plaquettes. Il permet aux fabricants de dispositifs de réaliser des dispositifs semi-conducteurs de meilleure qualité à un coût réduit et avec moins de consommation d'énergie. La machine est capable d'implanter des espèces énergétiques et non énergétiques avec jusqu'à 40MeV d'énergie de faisceau, et peut surveiller la microdosimétrie des particules en temps réel. AMAT Quantum Leap II est conçu pour une utilisation facile, avec une interface graphique intuitive et une capacité de recette avancée pour la gestion des recettes. Il dispose également d'un contrôleur intégré d'élimination des particules pour assurer un implant de haute qualité. En outre, le système dispose d'un système de surveillance d'imagerie haute résolution qui utilise des algorithmes avancés de reconnaissance de motifs pour contrôler avec précision le profil des espèces implantées. La puissance d'implantation des matériaux appliqués Le saut quantique II est assuré par un étage d'alimentation à haut rendement qui délivre jusqu'à 60A de puissance. Cette étape est complétée par une chambre source d'ions intégrée, construite selon les mêmes normes que la technologie d'implantation d'ions AMAT. Cela permet d'optimiser l'efficacité du frai ionique et de l'extraction du faisceau. Afin d'obtenir un contrôle maximal du procédé et une uniformité d'implantation, Quantum Leap II dispose d'un microscope breveté de surveillance du faisceau. Ce microscope surveille l'intensité du faisceau, le profil et la fluence des particules en temps réel. Un panneau de commande de faisceau avancé spécial permet à l'utilisateur d'ajuster avec précision des paramètres tels que l'émission de faisceau et les paramètres d'implant pour une performance optimale du processus. En outre, AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum Leap II offre une multitude de fonctionnalités avancées telles que le moniteur de contamination de chambre, le haut débit et le contrôle de précision haut de gamme des processus. Son magazine de chargement unique permet aux utilisateurs de charger facilement jusqu'à 3000 plaquettes par jour dans la chambre d'implant, permettant une implantation flexible et l'optimisation des processus. AMAT Quantum Leap II est un outil puissant et polyvalent pour les fabricants d'appareils qui cherchent à obtenir des appareils de meilleure qualité à moindre coût. Avec son interface utilisateur intuitive et ses fonctionnalités avancées, il leur permet d'obtenir des résultats de contrôle de processus supérieurs et une qualité de produit de classe mondiale.
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