Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Quantum Leap III #9016593 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Quantum Leap III est un implant ionique avancé et un moniteur pour les applications critiques d'implantation ionique. C'est un instrument polyvalent capable de fournir des résultats d'implantation très fiables et précis pour une gamme de semi-conducteurs et d'autres matériaux. Cet implant est équipé d'une gamme de caractéristiques techniques avancées conçues pour des performances supérieures et une plus grande fiabilité. AMAT Quantum Leap III se compose de l'équipement principal, d'un scanner et d'un système de surveillance de l'utilisation. L'unité principale se compose de deux composants distincts, l'unité de puissance et l'unité laser/optique. L'unité de puissance fournit un courant de faisceau maximal de 50 μ A et peut fournir une gamme de paramètres d'implantation pour répondre à différentes exigences de travail. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Quantum Leap III consiste en une machine robuste et fiable de balayage de faisceau pour des résultats d'implantation précis et précis. Le scanner consiste en un outil optique chromatique à balayage rapide qui peut générer une taille de faisceau aussi petite que 8 μ m. L'atout laser/optique peut fournir un contrôle de génération de faisceau entièrement automatisé, ce qui signifie que chaque travail d'implantation peut être personnalisé selon la taille, la forme et le profil d'implantation précis désirés. Quantum Leap III dispose également d'un modèle de surveillance de l'utilisation à la pointe de la technologie, qui fournit des informations détaillées sur l'utilisation comme le courant du faisceau, la taille du faisceau, la profondeur d'implantation, la dose totale, l'énergie des impulsions et le temps d'implantation. Cet équipement peut également être configuré pour afficher un journal de contrôle pour l'ensemble du processus d'implantation, qui peut être utilisé pour valider la précision et la cohérence. MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Quantum Leap III a été conçu pour répondre aux exigences des implants ioniques avancés, de haute précision et à faible dose. Ce système est compatible avec une large gamme de matériaux utilisés dans les procédés semi-conducteurs, ce qui en fait un outil idéal pour effectuer des tâches critiques d'implantation. De plus, l'instrument a une empreinte réduite, sa taille relativement compacte le rendant très adapté à l'intégration dans les processus d'implantation ionique existants. Dans l'ensemble, AMAT Quantum Leap III est un implant et un moniteur d'ions avancés, très fiables et précis. Ses caractéristiques techniques avancées et sa conception robuste en font un outil idéal pour une large gamme d'applications d'implantation de semi-conducteurs et d'autres matériaux.