Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Quantum Leap III #9066908 à vendre en France

MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Quantum Leap III est un bi-faisceau avancé, implanteur et moniteur d'ions à haut courant, capable de fournir une implantation précise et fiable d'ions sur une large gamme de matériaux de substrat. Au cœur, AMAT Quantum Leap III utilise les technologies beamline et ion-source, associées à des traitements avancés des faisceaux et des sources, pour fournir une implantation très précise et précise des ions dans les matériaux de substrat. Cette énergie ionique focalisée et ce courant d'implantation permettent une implantation à large portée en même temps. Les différents composants de beamline utilisés par APPLIED MATERIALS Quantum Leap III sont conçus pour optimiser la vitesse et la précision du processus d'implantation ionique. La ligne de faisceau, y compris la source d'ions, l'unité de contrôle du faisceau, l'unité de déviation du faisceau et l'optique optimisée, sont tous optimisés pour fournir la meilleure implantation d'ions possible pour une large gamme de matériaux de substrat, y compris les métaux, les semi-conducteurs et les polymères. Cette puissante combinaison de composants faisceau et source permet à Quantum Leap III de fournir un courant d'implantation allant de quelques dizaines de nanoampères à des dizaines de kiloampères, selon les résultats du processus d'implantation souhaité. En plus de ses composants de faisceau et de source, AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum Leap III est également équipé d'un moniteur pour fournir des données en temps réel sur le processus d'implantation ionique. Le moniteur, qui se compose d'une unité de contrôle de chambre et de diagnostics avancés, présente les différents paramètres tels que le courant d'implantation, l'énergie et la profondeur de l'implantation. Cela permet aux utilisateurs de visualiser le comportement d'implantation en temps réel, ce qui permet d'avoir des aperçus ou des changements immédiats au besoin. Cette fonctionnalité s'est déjà avérée incroyablement utile pour améliorer la précision et les performances d'implantation. AMAT Quantum Leap III Ion Implanter and Monitor est un système très efficace et performant, conçu pour fournir un processus d'implantation de qualité et fiable à un large éventail de matériaux de substrat. Sa combinaison avancée de composants beamline, moniteur et diagnostics, fournissent aux utilisateurs une implantation précise et puissante, ainsi que des données en temps réel afin que les utilisateurs puissent ajuster ou optimiser le processus comme ils le souhaitent.