Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Quantum X Plus #293821575 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS Quantum X Plus
ID: 293821575
Style Vintage: 2006-2011
High current ion implanters 2006-2011 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum X Plus ion implanter and monitor est un appareil d'implantation ionique qui fournit des ions avec un contrôle et une précision accrus. Il est conçu pour fournir des implants de haute qualité avec une cuisson optimisée à basse température, et peut être utilisé pour une variété de substrats, y compris le silicium, l'aluminium, la lithographie résiste, et les matériaux à couches minces. AMAT Quantum X Plus utilise la technologie multi-champs, qui dispose de champs doubles avec des tensions d'accélération réglables indépendamment. Cela permet d'augmenter la vitesse et la précision de l'implant, et permet de personnaliser l'opération en fonction du processus d'implantation spécifique. La machine dispose également d'une source numérique de faisceau d'ions, qui permet d'assurer des faisceaux d'ions cohérents pour des implants précis. La source de faisceau d'ions est réalisée en alliage d'aluminium monobloc et est conçue pour réduire les besoins de maintenance et augmenter la longévité. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Quantum X Plus est conçu pour une surveillance précise et performante. Le système de surveillance permet d'ajuster avec précision la dose, l'énergie et les espèces ioniques, ainsi que de surveiller des paramètres tels que la température et la pression. Cela garantit que le résultat souhaité est atteint et que les paramètres sont soigneusement surveillés et maintenus. Quantum X Plus est équipé d'une empreinte compacte et peu encombrante et comprend une gamme de services et d'options de support pour s'assurer que la machine reste en marche et que les résultats sont optimaux. Ces services comprennent l'ingénierie des applications, la maintenance des systèmes et la formation des utilisateurs. Dans l'ensemble, AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum X Plus est un implant ionique avancé et fiable qui permet une précision accrue lors de l'exécution d'une gamme de processus d'implantation ionique. Sa technologie multi-champs et sa source numérique de faisceau d'ions sont conçues pour maximiser la vitesse et la précision d'implantation et réduire les exigences de maintenance, tandis que son système de surveillance assure le maintien des paramètres et des résultats souhaités.
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