Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Quantum X Plus #9248922 à vendre en France

ID: 9248922
Taille de la plaquette: 8"-12"
Style Vintage: 2007
High current ion implanter, 8"-12" FI + Load ports Quantum III beam line Beam line module Beam line rack Processor rack Processor module Ion source module Computer table Accessories Mains matching transformer ISO TX Roof panels Enclosure ends panels Doors Ground plane rack Ground plane ISO TX to rear of processor Quantum X plus safety guards Cryo lift rail long Goal post Enclosure rails Earthing lances Earthing blade assy Earthing blade shaft / Handle Beamline doors enclosure Beamline door struts Beamline extraction Beamline ground plane Cryo lift rail Roof extraction Lights and diffusers Monitors Enclosure doors Compressor Heat exchanger Turbo pump Cryo Pump with cage 2D Isocentric scanning system With high tilt up to 60° Frequency: 50 / 60 Hz Full load current: 125 A Overcurrent protection: 150 A Chillers 2007 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum X Plus Ion Implanter & Monitor est un outil de pointe conçu pour des processus d'implantation ionique efficaces et précis dans une production à haut volume. AMAT Quantum X Plus est un implant ionique de pointe qui améliore les implantateurs ioniques existants avec ses caractéristiques de haute technologie et son design. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Quantum X Plus Ion Implanter & Monitor est conçu avec une technologie supérieure de mise en forme des faisceaux, permettant une précision supérieure lors de l'implantation d'ions dans des plaquettes. Il dispose également d'un équipement unique de dispersion de faisceau neutre qui augmente la couverture de la zone d'implantation. En outre, il dispose d'un système intégré de mise en forme de faisceau neutre actif à haute tolérance qui minimise les effets de conicité et l'implantation non uniforme. Quantum X Plus est également conçu pour fournir une grande vitesse et précision pour divers processus d'implantation, offrant des performances supérieures à d'autres systèmes disponibles. Il a un débit de dose élevé qui est capable de délivrer un débit de dose d'implantation de 4-7 dpa/min, une capacité de résolution supérieure pour l'implantation à haut débit, et une vitesse de balayage allant jusqu'à 1000-5000 Hz. En outre, AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum X Plus Ion Implanter & Monitor dispose d'une variété de capteurs qui fournissent une rétroaction pour l'opérateur et surveiller les conditions environnementales. AMAT Quantum X Plus est également conçu avec une unité de sécurité robuste qui comprend la protection contre les radiations, le diagnostic des défauts et la protection contre les accidents. En outre, MATÉRIAUX APPLIQUÉS Quantum X Plus Ion Implanter & Monitor est conçu avec des logiciels haut de gamme pour fournir aux opérateurs un contrôle précis sur le processus d'implantation ionique, permettant des processus automatisés avec une interaction minimale de l'opérateur. En conclusion, Quantum X Plus Ion Implanter & Monitor est une machine technologiquement avancée conçue pour améliorer la précision et l'efficacité des processus d'implantation ionique dans la production de wafers à haut volume. L'outil offre un processus de mise en œuvre à grande vitesse, une mise en forme de faisceau de précision, une couverture étendue de l'implantation et des systèmes de sécurité robustes. Cet atout hautement sophistiqué offre la solution idéale pour obtenir des résultats supérieurs dans des applications nécessitant précision et fiabilité.
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