Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Quantum X #9093635 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS Quantum X
ID: 9093635
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2006
Implanter, 12", 2006 vintage.
MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Quantum X est un implant ionique et un moniteur conçu pour délivrer des ions à faible énergie dans des plaquettes semi-conductrices dans le but de les doper avec des matériaux semi-conducteurs. C'est un instrument de haute précision qui dispose d'un manipulateur de plaquettes motorisées à trois axes à entraînement direct sous mouvement x, y et z. Ceci permet un alignement précis de la plaquette sur l'axe cible d'implantation. AMAT Quantum X comprend également un équipement avancé de balayage par faisceau, permettant une précision et une uniformité maximales des implants. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Quantum X effectue facilement l'implantation d'ions de haute énergie par immersion plasmatique moderne. Il est conçu pour implanter des ions à faible énergie, ce qui le rend adapté à de nombreux procédés de fabrication de semi-conducteurs. De plus, Quantum X dispose de capacités avancées de balayage et de réglage des faisceaux pour assurer une implantation précise. Cela inclut le réglage du courant, l'énergie d'accord et le contrôle de la zone balayée. Son système d'alarme intégré avertit également l'utilisateur lorsque le faisceau dépasse les limites de fonctionnement prédéterminées. En plus d'une implantation fiable, AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum X comprend une unité de surveillance de haute précision, fournissant des données à la fois en temps réel et post-processus sous forme graphique et numérique. Cette machine utilise une combinaison de rapports de contrôle de faisceau et d'énergie pour assurer des niveaux de dopage optimaux. De plus, AMAT Quantum X comprend une variété de dispositifs de sécurité intégrés pour protéger le personnel et l'équipement contre les rayonnements. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Quantum X est un outil essentiel pour toute ligne de production de semi-conducteurs. Il fournit une implantation précise des ions à basse énergie et un suivi en temps réel du processus d'implantation. Avec sa commande avancée de faisceau, son outil d'alarme et ses caractéristiques de sécurité, c'est un choix idéal pour toute usine de fabrication de semi-conducteurs.
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