Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Quantum X #9225919 à vendre en France

AMAT/MATÉRIAUX APPLIQUÉS Quantum X est un appareil de combinaison d'implantation et de surveillance ionique à haute puissance. Ce système est conçu pour faciliter l'implantation et la surveillance efficaces d'implants ioniques pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Cette unité de combinaison est constituée d'un implanteur d'ions à haute énergie ainsi que d'un spectromètre d'émission optique (OES) pour la mesure du niveau de dopage ionique lors de l'implantation. L'implant AMAT Quantum X peut accueillir plusieurs sources d'ions, dont le bore, les composés du bore, le carbone, l'azote, le phosphore, l'arsenic, l'antimoine et d'autres dopants. Il a une large gamme de niveaux d'énergie et de masse d'ions, avec une concentration de faisceau réglable jusqu'à 350 keV et des tailles de 10-25 µm. Il dispose également d'une chambre à vide protégée RF, permettant l'implantation de composés très sensibles. En outre, il utilise une machine de commande avancée en boucle fermée pour assurer un contrôle précis des dépôts de matériaux. La composante OES de l'outil facilite les mesures en temps réel des niveaux de dopage ionique lors de l'implantation. Utilisant un spectromètre optique à deux canaux avec une plage de détection étendue de 185nm à 1000nm, l'OES mesure les concentrations actives de dopants tout en assurant une sensibilité et une répétabilité élevées du signal. De plus, les algorithmes embarqués peuvent identifier et signaler les instabilités dans les paramètres du processus d'implant pour identifier et corriger rapidement les anomalies d'implant. La combinaison de l'implanteur ionique de haute puissance et du spectromètre d'émission optique fait des matériaux appliqués Quantum X un choix idéal pour la fabrication à haut débit de dispositifs IC avancés. En permettant une implantation et une mesure rapides et précises des niveaux de dopage ionique, il réduit la variabilité du processus et améliore le rendement du dispositif. Il offre également une interface graphique facile à utiliser qui facilite la programmation, la surveillance et l'enregistrement des données. Pour assurer un fonctionnement fiable, Quantum X comprend plusieurs fonctions de sécurité telles que le déclenchement d'une source d'ions et l'arrêt à distance. Grâce à sa conception robuste et à son outil intégré de surveillance des performances, AMAT/APPLIED MATERIALS Quantum X peut être intégré à divers procédés avancés de gravure et de dépôt de plasma. Sa durabilité et sa flexibilité en font le modèle d'implant idéal pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et de MEMS.