Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Varian VIISion 200 #293814929 à vendre en France
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ID: 293814929
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2000
Ion implanter, 8"
Ion source: Standard (STD)
Compressed air: 125 PSI
Chilled water supply with PID temperature control
Power requirements: 208 V, 150 A, 3-phase
2000 vintage.
AMAT Varian VIIStion 200 est un équipement d'implantation et de surveillance ionique de pointe qui offre des capacités avancées pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs. Ce système de pointe est conçu pour fournir une implantation ionique précise et fiable permettant des circuits intégrés performants. Au cœur de l'unité Varian VIIStion 200 se trouve sa technologie d'implantation ionique, qui implique le dépôt précis de particules ionisées dans une plaquette semi-conductrice pour modifier ses propriétés électriques. Ce procédé est crucial pour créer les profils dopants nécessaires à la fabrication de dispositifs semi-conducteurs complexes. Le Varian VIIStion 200 utilise un faisceau d'ions de haute énergie généré par une source d'ions, qui est ensuite dirigé vers la plaquette à l'aide d'une optique de ligne de faisceau sophistiquée. Une des caractéristiques clés de la Varian VIIStion 200 est sa conception avancée de la ligne de faisceau, qui assure une implantation ionique uniforme sur toute la surface de la plaquette. Pour ce faire, on utilise des éléments de focalisation magnétique, tels que des lentilles quadrupolaires et des déflecteurs électrostatiques, qui contrôlent la trajectoire du faisceau d'ions. La machine dispose également d'un outil automatisé d'alignement de faisceau qui surveille et ajuste en permanence la position du faisceau pour assurer une implantation précise. En plus de ses capacités d'implantation précises, le Varian VIIStion 200 est équipé d'un outil de surveillance complet qui permet une analyse en temps réel du processus d'implantation ionique. Cela comprend des capteurs in situ qui mesurent le courant du faisceau, l'énergie et la dose, fournissant une rétroaction précieuse pour maintenir la stabilité du processus et assurer une performance uniforme du dispositif. Le modèle comprend également des outils intégrés de métrologie pour caractériser le profil dopant et évaluer la qualité des plaquettes implantées. La Varian VIIStion 200 offre un haut degré de flexibilité et de personnalisation pour répondre aux exigences spécifiques des fabricants de semi-conducteurs. L'équipement est capable de manipuler un large éventail d'espèces ioniques, d'énergies et de doses, permettant un réglage précis du processus d'implantation pour différentes architectures de dispositifs. Le système est également entièrement programmable, avec un contrôle logiciel avancé qui permet aux utilisateurs de définir des recettes d'implantation personnalisées et d'optimiser les paramètres de processus pour une efficacité maximale. En outre, le Varian VIIStion 200 est conçu pour des environnements de fabrication à haut débit, avec des cycles d'implantation rapides et des capacités de manutention efficaces des plaquettes. L'unité dispose d'un gestionnaire de plaquettes robotique qui peut automatiquement charger et décharger des plaquettes, maximisant la productivité et minimisant les temps d'arrêt. En outre, la machine est équipée de dispositifs de sécurité avancés, tels que des systèmes d'interception et de protection contre les radiations, afin d'assurer un environnement de travail sûr pour les opérateurs. Dans l'ensemble, MATÉRIAUX APPLIQUÉS Varian VIIStion 200 représente le sommet de la technologie d'implantation ionique, offrant aux fabricants de semi-conducteurs un outil puissant pour obtenir des performances et une efficacité de production optimales. Avec ses capacités avancées, son contrôle précis de l'implantation et son outil de surveillance complet, le Varian VIIStion 200 est un composant essentiel dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs de pointe.
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