Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS xR80 Leap II #9243467 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS xR80 Leap II est un implant ionique haut de gamme et un moniteur pour l'industrie des semi-conducteurs. Il s'agit d'un dispositif polyvalent et lourd capable d'implanter divers types d'ions dans des substrats pour la production de dispositifs d'affichage, de circuits intégrés et de mémoire avancés. Il est conçu pour implanter rapidement et de façon fiable des ions dans des substrats pour une qualité et des performances constantes du produit. AMAT xR80 Leap II est un implanteur d'ions à rayons X qui se compose d'une source d'ions haute pression, d'une chambre d'implantation, d'une ligne de faisceau, d'une ligne de faisceau séparée en masse et d'un gestionnaire de plaquettes. La source d'ions contient un filament de tungstène, qui fournit les ions à implanter dans le substrat. La chambre d'implantation accélère alors les ions à une vitesse nécessaire pour pénétrer dans le substrat. La ligne de faisceau crée un faisceau régulier et uniforme d'ions le long d'un trajet désigné, et une ligne de faisceau séparée en masse trie les ions en fonction de leur masse pour assurer l'implantation du bon type d'ion dans le substrat. Enfin, le gestionnaire de plaquettes place le substrat dans la position exacte nécessaire à l'implantation. MATÉRIAUX APPLIQUÉS xR80 L'implantation ionique de Leap II est contrôlée par une suite logicielle CMC-7000XR, qui assure un contrôle complet de toutes les principales caractéristiques du système, permettant des paramètres d'implantation précis. Il comprend également une fenêtre d'optimisation intégrée, qui permet aux ingénieurs de modifier et de comparer divers scénarios d'implantation pour assurer les meilleures performances de chaque appareil en cours de production. XR80 Leap II est bien adapté pour effectuer des tâches telles que le gettering des impuretés, le masquage, l'activation de surface et la passivation. L'implant ionique et le moniteur offrent un contrôle précis du processus, garantissant des rendements élevés et une qualité constante du produit. En outre, AMAT/APPLIED MATERIALS xR80 Leap II supporte des systèmes avancés de contrôle de l'énergie du faisceau et des outils sophistiqués d'analyse des pannes, pour des capacités diagnostiques avancées. AMAT xR80 Leap II est un implant et un moniteur ionique avancé et robuste, conçu pour répondre aux exigences de plus en plus strictes de l'industrie des semi-conducteurs. Sa conception polyvalente et sa suite logicielle intégrée permettent aux ingénieurs d'implanter rapidement et de façon fiable divers types d'ions dans des substrats, ce qui permet d'obtenir des performances fiables et cohérentes.