Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS xR80 Leap II #9329404 à vendre en France

ID: 9329404
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2002
High current implanter, 8" Processor module Beamline module Source services module Processor rack Mobile PC and desktop Clean room PC Signal tower TEM Probe ISO TX Mains matching TX Beamline controllers PSU's and assy: Pre accel / Mag controller Beamline Inst Vacuum controller Turbo controllers Focus PSU Decel PSU A Mag PSU Pre A converter PSU Source mag PSU Suppression PSU Beam path components source / Extraction / Flight tube / MRS and PFS assy: Source head type: IHC Extraction type: Dual bellows Flight tube MRS Pre-defining PFS Type: HD Control system: MOTOROLA 68040 Series PC based operator interface Gas cabinet: SDS Module: AsH3 (SDS) / PH3 (SDS) / BF3 (SDS) / SDS Purge Module PSU's Controllers and assy: Gas and temperature controller Filament PSU Arc PSU Bias PSU DPS Pre A HV stack G2 PSU, 8" Source ISO TX Vacuum system: LEYBOLD 1000C Turbo pump LEYBOLD 361C MRS Turbo pump LEYBOLD Turbotronik NT20 Turbo pump controllers EDWARDS QDP40 Beamline dry pump CTI-CRYOGENICS OB -10 Side cryo pump CTI-CRYOGENICS OB -10 Rear cryo pump CTI-CRYOGENICS 9600 Side cryo compressor, 220 V CTI-CRYOGENICS 9600 Rear cryo compressor, 220 V Processor PSU's controller and assy: Wheel and components Spin motor Gripper Transfer arm Clip actuator Blade A/B Sensor Tilt assy, 0-7° PFS DP Box Beam stop Beam profiler Filament PSU (PFS) Wafer loader: Carousel Indexer W/L Door Oriented Cassettes / Trays: (3) Trays Arm servo PSU Arm servo controller Control Rack: DAQ PDU Option chassis Target system installer W/L Controller W/L Vacuum Ground PDU Target system vacuum Spin / Scan controller Direct drive interface Plasma flood chassis Amp scanner Amp spinner Spin / Scan PDU Bleed resistor VME: CPU Main board Loop controller Tetrode source head 80 keV Stack with resistors on top G2 Power supply side of gas cabinet G2 Resistor next to source head Source transformer ISO Transformer W/L area Larger beam / Stop Decal chassis under B/line HD PFS Operating system: Windows NT 2002 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS xR80 Leap II est un implant et un moniteur d'ions préfabriqués. Cet équipement est spécialement conçu pour l'implantation et la surveillance de très petites tailles de substrat, telles que des plaquettes utilisées dans la fabrication de semi-conducteurs. Le Leap II est capable d'implantation à haut débit et de surveillance en temps réel. La principale caractéristique du Leap II est sa capacité à fonctionner avec une variété de gaz implants et de matériaux dopants. A l'aide de la plate-forme xR80, le Leap II est capable d'implants précis à des températures aussi basses que -100 ° C Il a une gamme d'énergie allant jusqu'à 800 keV ce qui permet un meilleur contrôle du processus d'implantation. En outre, le Leap II dispose d'un équipement de refroidissement mécanique extrêmement efficace qui permet un temps de réchauffement et de rafraîchissement plus rapide. Cela permet des temps de cycle plus courts et un processus plus efficace. Le Leap II dispose également d'un système d'imagerie numérique haute résolution pour effectuer l'imagerie en ligne du substrat afin d'assurer la précision des implantations. Cette unité utilise une caméra CCD pour capturer des images numériques haute résolution des substrats, permettant un contrôle précis du processus. Cette machine de surveillance fournit une rétroaction en temps réel pour l'optimisation des processus. Le Leap II dispose d'un outil avancé de surveillance des plaquettes qui combine des composants mécaniques, optiques et électriques de pointe pour fournir des mesures précises de divers paramètres pendant l'implantation. Cet outil de surveillance peut détecter les erreurs potentielles et les empêcher de se produire. La plate-forme xR80 unique du II de Saut a aussi intégré le logiciel de contrôle qui fournit le pistage de processus amélioré et le contrôle. Ce logiciel permet une meilleure optimisation et traçabilité des processus et peut être personnalisé pour des besoins spécifiques de processus ou d'application. En plus des systèmes d'analyse et de contrôle de processus haute performance, le Leap II dispose également d'un modèle robotique haut de gamme pour les installations automatisées. Cet équipement robotique peut être utilisé pour réaliser même les installations les plus complexes, ce qui permet un meilleur contrôle des processus et une efficacité accrue. Dans l'ensemble, AMAT xR80 Leap II est un puissant implanteur et moniteur d'ions préfabriqués qui fournit une implantation efficace et une analyse de substrat en temps réel. Son logiciel de contrôle avancé permet la traçabilité des processus et le système robotique intégré fournit des installations automatisées. Cette unité est parfaite pour les fabricants de puces semi-conductrices à la recherche d'implantations efficaces et précises.
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