Occasion AXCELIS NV-GSD-200 #293817746 à vendre en France

AXCELIS NV-GSD-200 est un implant et un moniteur ionique de pointe conçu pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs. Pionnier d'AXCELIS Technologies, un fournisseur leader de solutions d'implantation ionique pour l'industrie mondiale des semi-conducteurs, NV-GSD-200 est un équipement polyvalent et performant qui offre une précision et un contrôle exceptionnels pour implanter des ions dopants dans des plaquettes de silicium. Au cœur d'AXCELIS NV-GSD-200 se trouve sa technologie de pointe, qui permet un contrôle précis de l'énergie et de la dose des faisceaux d'ions. Le système utilise un faisceau d'ions à fort courant, fortement collimaté, généré par des sources d'ions pilotées par RF, permettant des profondeurs d'implantation précises et des profils dopants uniformes. La ligne de faisceau est équipée de quadrupoles magnétiques sophistiqués et de lentilles électrostatiques, ainsi que des capacités de balayage et de mise en forme du faisceau, assurant un contrôle serré sur la focalisation et la trajectoire du faisceau. NV-GSD-200 dispose d'une conception de station terminale double plaquette, accueillant deux plaquettes simultanément pour augmenter le débit et l'efficacité. La station d'extrémité est équipée de mécanismes de manutention des plaquettes de précision, y compris des systèmes robotiques de transfert des plaquettes et des capacités avancées d'alignement et de positionnement des plaquettes. Ceci assure une implantation précise et répétable d'ions dopants sur la surface de la plaquette, même à des débits élevés. L'un des points forts d'AXCELIS NV-GSD-200 est son unité de surveillance et de contrôle avancée, qui fournit un retour en temps réel sur les paramètres du faisceau d'ions et les caractéristiques des plaquettes. La machine est équipée d'une gamme de capteurs et de détecteurs, y compris des tasses Faraday, des moniteurs de profil de faisceau et des spectromètres de masse, permettant de mesurer avec précision le courant du faisceau d'ions, l'énergie et la composition des espèces. Les données de surveillance en temps réel sont redirigées vers le logiciel de contrôle de l'outil, permettant des réglages rapides pour garantir des résultats d'implantation optimaux. En plus de ses capacités d'implantation précises, NV-GSD-200 est également conçu pour la flexibilité et l'évolutivité pour répondre aux besoins évolutifs des fabricants de semi-conducteurs. L'actif est compatible avec une large gamme d'ions dopants, y compris le bore, le phosphore, l'arsenic et d'autres éléments couramment utilisés dans la fabrication de semi-conducteurs. Il supporte également une variété de procédés d'implantation, tels que la canalisation ionique, le dopage au halo et la formation de jonctions, ce qui le rend adapté à un large éventail d'applications dans la fabrication avancée de semi-conducteurs. En outre, AXCELIS NV-GSD-200 est conçu avec un accent sur la haute fiabilité et la facilité d'entretien. Le modèle dispose de chambres à vide robustes et de composants de ligne de faisceau, ainsi que de capacités de détection et de diagnostic de défaut avancées pour minimiser les temps d'arrêt et maximiser l'efficacité opérationnelle. Son interface conviviale et sa suite logicielle complète fournissent aux opérateurs des outils de contrôle et de surveillance intuitifs, assurant un bon fonctionnement et un dépannage rapide en cas de problème. Globalement, NV-GSD-200 représente une solution de pointe pour l'implantation ionique dans la fabrication de semi-conducteurs, offrant une précision, un contrôle et une fiabilité inégalés pour la réalisation de dispositifs semi-conducteurs performants. Sa technologie de pointe, sa conception de station terminale à double tranche, ses capacités de surveillance et de contrôle en temps réel et sa polyvalence en font un outil précieux pour les fabricants de semi-conducteurs qui cherchent à repousser les limites de performance et de rendement des appareils dans un paysage industriel de plus en plus concurrentiel.