Occasion EATON / AXCELIS Purion H200 #293799094 à vendre en France

EATON/AXCELIS Purion H200 est un implant et un moniteur ionique de pointe conçu pour des applications avancées de fabrication de semi-conducteurs. Cet équipement complexe et sophistiqué combine des capacités d'implantation ionique de précision avec des fonctions de surveillance robustes pour garantir des performances et une fiabilité optimales dans les processus de production de semi-conducteurs. EATON Purion H200 se distingue par son contrôle de faisceau ionique de haute précision, ses technologies de surveillance avancées et ses capacités d'implantation polyvalentes. Au cœur d'AXCELIS Purion H200 se trouve sa technologie de faisceau d'ions, qui permet l'implantation précise et contrôlée d'ions dans des substrats semi-conducteurs. Le système est équipé d'une source d'ions haute énergie qui produit un faisceau d'ions focalisé avec une stabilité et une uniformité exceptionnelles. Ce faisceau peut être précisément accéléré et guidé pour cibler des régions spécifiques de la surface de la plaquette, permettant une implantation ionique précise avec une précision de sous microns. Le faisceau d'ions peut être ajusté en énergie, en courant et en angle pour atteindre la profondeur et la dose d'implantation souhaitées, ce qui rend Purion H200 adapté à une large gamme de procédés de fabrication de semi-conducteurs. En plus de ses capacités d'implantation ionique, EATON/AXCELIS Purion H200 dispose de technologies de surveillance avancées qui garantissent l'intégrité et la cohérence des processus. L'unité est équipée de capteurs de surveillance en temps réel qui fournissent une rétroaction sur les paramètres clés du processus, tels que le courant du faisceau d'ions, l'énergie et l'uniformité. Ces capacités de surveillance permettent aux opérateurs d'ajuster en temps réel le processus d'implantation pour maintenir des performances et des rendements optimaux. EATON Purion H200 comprend également des procédures d'étalonnage automatisées et des outils d'autodiagnostic qui améliorent la fiabilité de la machine et réduisent les temps d'arrêt. AXCELIS Purion H200 offre un haut degré de flexibilité et d'évolutivité, ce qui le rend adapté à une variété d'applications de fabrication de semi-conducteurs. L'outil peut accueillir un large éventail de tailles et de matériaux de plaquettes, de petits échantillons de recherche à de grandes plaquettes de production. Il supporte plusieurs espèces d'ions, y compris des dopants communs comme le bore, le phosphore et l'arsenic, ainsi que des ions de spécialité pour des processus personnalisés. Purion H200 peut être configuré avec différents modes d'implantation d'ions, tels que le faisceau de taches ou le balayage de raster, pour répondre à diverses exigences d'implantation et géométries de substrat. En termes de performance, EATON/AXCELIS Purion H200 offre une précision et une répétabilité d'implantation ionique exceptionnelles grâce à ses technologies avancées de contrôle et de surveillance des faisceaux. L'actif peut atteindre des doses d'implantation précises allant de quelques atomes à des doses élevées dépassant 1E16 cm-2, avec une excellente uniformité et un contrôle de dose sur la surface de la plaquette. EATON Purion H200 offre également un débit d'implantation rapide, permettant une production à haut volume avec des durées de cycle minimales. Dans l'ensemble, AXCELIS Purion H200 établit une nouvelle norme pour les systèmes d'implantation et de surveillance des ions dans la fabrication de semi-conducteurs. Sa combinaison de contrôle ionique de précision, de capacités de surveillance avancées et de polyvalence en font un choix idéal pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs de pointe. Avec ses performances exceptionnelles, sa fiabilité et sa flexibilité, Purion H200 est bien adapté aux fonderies de semi-conducteurs de pointe, aux établissements de recherche et aux fabricants de dispositifs intégrés qui cherchent à obtenir des performances et un rendement supérieurs.