Occasion EATON NOVA / AXCELIS 1204990 REV C #9145256 à vendre en France

EATON NOVA / AXCELIS 1204990 REV C
ID: 9145256
Style Vintage: 1996
ARC Power supplies mod NV20A 1996 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS 1204990 REV C est un dispositif d'implantation et de surveillance ionique fabriqué par AXCELIS. Ce dispositif est utilisé dans des procédés de fabrication de semi-conducteurs tels que le dopage de plaquettes de silicium à régions dopées. AXCELIS 1204990 REV C utilise une technologie avancée d'implantation ionique pour des caractéristiques électriques précises et uniformes. L'appareil dispose d'une unité de contrôle avec scanner x-y, étage de plaquettes et source d'ions multi-filaments, tous combinés dans une seule trame et intégrés dans un système automatisé. L'étage de plaquette est utilisé pour le maintien et la rotation de la plaquette de silicium pendant son traitement. Le scanner est utilisé pour placer avec précision le faisceau d'ions afin d'atteindre les emplacements de dopage souhaités. La source d'ions multi-filaments est une composante de l'optique formant faisceau d'ions, utilisée pour générer un faisceau d'ions plus ou moins énergétiques des éléments désirés, et les guider vers la zone cible de la plaquette. EATON NOVA 1204990 REV C est conçu pour permettre un contrôle précis du processus d'implantation du faisceau d'ions, assurant un contrôle fin de l'énergie, de la dose et du profil des ions implantés. Le contrôleur est capable de contrôler à la fois les modes d'implantation à courant constant et à tension constante, avec des valeurs réglables pour les espèces de tension, de courant et d'ions. Ce dispositif est également équipé d'une gamme de systèmes de surveillance pour surveiller et maintenir la qualité du processus d'implantation ionique. 1204990 REV C est capable d'afficher des données représentées graphiquement, fournissant une image approfondie du processus. EATON NOVA/AXCELIS 1204990 REV C est un dispositif idéal pour contrôler et surveiller le processus d'implantation dans la fabrication de semi-conducteurs. Il assure un contrôle très précis du processus d'implantation ionique et permet des résultats de dopage complexes et précis. Les systèmes de surveillance intégrés permettent également de maintenir les paramètres du procédé de manière à garantir des produits finaux de haute qualité. Avec sa technologie de pointe et son contrôle précis, AXCELIS 1204990 REV C est un dispositif fiable et polyvalent pour l'implantation et la surveillance dans la fabrication de semi-conducteurs.
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