Occasion EATON NOVA / AXCELIS C-6000 #9248477 à vendre en France

EATON NOVA/AXCELIS C-6000 est un équipement spécialisé d'implantation et de surveillance d'ions. Il est conçu pour doper avec précision les plaquettes semi-conductrices et les substrats des circuits intégrés (IC) en utilisant des ions accélérés avec une précision et une vitesse accrues. Le système utilise un pistolet à ions avancé pour le processus d'implantation et des capteurs haute résolution pour la surveillance précise du processus d'implantation. AXCELIS C-6000 consiste en une unité de portique à deux axes utilisant des moteurs linéaires pour le déplacement ultra-précis de la source et de la plaquette d'ions afin d'assurer un positionnement correct dans les plans X et Y. Les commandes du moteur sont programmables, permettant une implantation précise du profil dopant désiré. La source d'ions, typiquement une source d'ions de Kaufman, est utilisée pour des applications d'implants ioniques à haute énergie. La source de Kaufman offre un large éventail d'espèces d'ions, permettant des profils d'implants flexibles sur les substrats. EATON NOVA C-6000 utilise une machine de surveillance de la coupe Faraday haute résolution pour permettre une surveillance et un contrôle précis du processus de dopage. Cet outil de coupe Faraday permet de mesurer avec précision et de contrôler instantanément la vitesse des ions accélérés. Des informations en temps réel sur la dose implantée peuvent être obtenues à partir de la tasse Faraday, ce qui permet un contrôle plus précis et précis du processus. En plus de la tasse Faraday, C-6000 dispose d'un actif de surveillance résistif avancé pour la détermination de la dose et le contrôle. Ce modèle utilise un ensemble de quatre détecteurs parallèles pour surveiller la dose implantée en temps réel. En comparant la lecture des détecteurs aux valeurs prédéfinies, on peut facilement surveiller et contrôler l'implantation. EATON NOVA/AXCELIS C-6000 comprend un équipement sous vide avancé conçu pour permettre l'utilisation efficace de l'énergie du faisceau d'ions pour le processus d'implantation. L'utilisation de pompes turbomoléculaires de pointe, un choix adéquat de lignes de pompage et des vitesses de pompage efficaces élevées assurent un environnement stable sous vide. Ce système est conçu pour permettre aux activités d'implantation de se dérouler à des pressions plus faibles, ce qui peut améliorer considérablement la prévisibilité et la précision du processus d'implantation. AXCELIS C-6000 est une unité avancée d'implantation et de surveillance d'ions, permettant un dopage précis et rapide des plaquettes semi-conductrices et des substrats IC. Il utilise un canon à ions avancé, une machine de surveillance de la coupe Faraday de haute précision, et un outil de surveillance résistive avancé pour le contrôle de dosage précis. En outre, un actif sous vide avancé assure une utilisation efficace des faisceaux ioniques pour assurer une implantation précise des niveaux de dopage désirés.