Occasion EATON NOVA / AXCELIS GSD 200 #9173588 à vendre en France
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Vendu
ID: 9173588
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 1992
Ion implanter, 6"
Energy 80kv or 160kv: 180 kV
15 ma system
Control system:
Sun workstation type: SPARC 5
Cell controller CPU PCB type: VME 177
Monitor size and type: LCD
Transformer: Oil
Device interface:
Ground electronic Dl rack: Yes, 1163960
Disk vac DI rack: Yes
Terminal beatline Dl rack: Yes, 1163962
Gas control rack: Yes
Source control DI rack: Yes
Dose control DI rack: Yes
Terminal electronic Dl rack: Yes
Main tower distribution DI rack: Yes
Terminal power distribution Dl rack: Yes
Ground power distribution DI rack: Yes
Disk thermal couple Dl rack: Yes, 1187280
Loadlock control DI rack: Yes, 1176551
Gas box:
Source cabinet: Yes
Gas lines (3 or 4 line): Non module
Gas type: HP or SDS
Line 1 HP (Ar) 1510A
Line 2 SDS (BF3) 8162
Line 3 HP (AsH3) 1501A
Line 4 SDS (PH3) 8162
Source / Terminal:
Source head type or P/N: Bernus
Extraction electrode type or P/N: 1153600, Old type
Extraction power supply P/N: OL8000HV unit 100W
Source rough pump type: No
Source Hi-Vac pump type: Diffusion pump
Beam guide P/N: Yes, Old type
P8 Turbo pump type: No
Dual vaporizer: No
Filament power supply: Yes
Vaporizer power supply: Yes
Arc power supply: Yes
Source suppression power supply: Yes
Analyzer magnet power supply: Yes
Source magnet power supply: Yes
Quadruple power supply: No
Quadrapole assy: No
Resolving / Endstation:
Post accel suppression power supply: Yes, -5 kV,100mA
Post accel high voltage power type: OL8000/104/05
Post accel electrode assy: Yes, 1165340
Post accel tube assy: Yes
Electron shower: Yes, E-show / Old type
Shower power supply P/N: Yes, 1168391
Electron shower gas bleed assy: No
Whole enclosure door: Yes
Wafer transfer controller type P/N: Old type-ASYNC
Robot controller type or P/N: Old type-ASYNC
Loadlock controller type or P/N: Yes, 1176551
Rotary controller type or P/N: 1169071, Belt type
Y-Scan controller type or P/N: Yes, 1169081
Gyro controller type or P/N: Old type-ASYNC, 1168391
Cryo pump P2 / On board: CTI Torr 8
Cryo pump P3 / On board: CTI Torr 10
Cryo pump compressor type: 8200 9600
Disk chiller type: Yes, HX-150
RP2 for P2 / P3 / Beamline / Process / Loadlock: No
RP3 for sliding seal: No
P9 Cryo pump / Compressor: No
Wafer buffer: No
Belt type
Current:
(2) HP
(2) SDS
Disk size: 6" (old type) 1173936
Manual / Drawing: No
Power requirements: 208 V, 50/60 Hz, 3-phase, 50 kVA
Currently de-installed and warehoused
1992 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS GSD 200 est un implanteur et moniteur ionique lourd conçu pour l'industrie des semi-conducteurs. Il est utilisé pour implanter des ions dans divers matériaux, dont le silicium, la silice, le germanium, l'étain, le tungstène, le gallium et l'aluminium. Le dispositif intègre une source d'ions avec des courants de faisceau d'ions à énergie variable allant jusqu'à 400 μ A et un scanner X-Y à grande surface pour un positionnement précis de la tache de faisceau. Il dispose également d'un équipement de contrôle rapide à haute résolution pour une implantation précise. AXCELIS GSD 200 est capable d'effectuer une implantation ionique sur une large gamme de substrats, ce qui le rend idéal pour la production de très petites et complexes structures de dispositifs. Le dispositif peut traiter des dispositifs allant de quelques micromètres à plusieurs millimètres de taille. Il offre des performances haut de gamme, avec des tolérances de variation faibles et une homogénéité constante, ce qui le rend adapté à une production fiable d'appareils hautement perfectionnés. Le dispositif est équipé d'un système de vide entièrement automatisé pour répondre aux exigences de basse pression de l'implantation. Pour plus de sécurité, le dispositif dispose d'emboîtements de sécurité intégrés. Il s'appuie également sur une Unité de Surveillance Automatique des Particules (APMS) pour l'analyse en ligne des particules dans la chambre pendant l'implantation. EATON NOVA GSD 200 est conçu pour offrir une facilité d'utilisation à l'utilisateur. Il est livré avec des interfaces graphiques intuitives et une gestion d'accès restrictive à plusieurs niveaux. Les paramètres de contrôle et d'autres paramètres peuvent être réglés directement via l'interface tactile. En plus de l'implantation, le GSD 200 est également capable de surveiller et d'analyser in situ les plaquettes implantées. Il est équipé d'une technologie d'imagerie avancée qui permet de visualiser la plaquette avant, pendant et après le processus d'implantation ionique. L'appareil dispose également d'une machine de surveillance numérique à jour qui enregistre des informations détaillées sur les paramètres du processus et les performances des plaquettes, telles que les historiques de route et les analyses de dose. Ces données peuvent être utilisées par l'utilisateur pour dépanner et optimiser les transitoires de processus. EATON NOVA/AXCELIS GSD 200 est un choix recherché pour la production à haut rendement de conceptions complexes. Il fournit une plate-forme fiable pour la production de dispositifs semi-conducteurs très précis qui répondent aux exigences de la technologie de pointe.
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