Occasion EATON NOVA / AXCELIS GSD 200 #9262469 à vendre en France

EATON NOVA/AXCELIS GSD 200 est un implant ionique avancé et un moniteur conçu pour être utilisé dans les installations de production de semi-conducteurs. L'équipement est capable de fournir des implants de haute qualité et fiables, à la fois à haute énergie, à faible énergie et à très faible énergie, pour une utilisation dans une gamme de procédés. Ce système est particulièrement efficace pour l'implantation ionique de substrats et circuits semi-conducteurs du fait de sa précision et de sa précision supérieures. AXCELIS GSD 200 est équipé d'un moniteur ionique robuste qui permet de surveiller en temps réel la dose, le profil et les paramètres d'inclinaison des ions. Ce moniteur fournit des lectures précises de la dose cible et du profil posologique global afin d'assurer la précision et la précision de l'implant. La norme EATON NOVA GSD 200 comprend également une unité de vide pour que tout chauffage ou implantation ionique du substrat puisse se faire dans un environnement sous vide, ce qui assure en outre la précision et les performances de la machine. En outre, GSD 200 utilise des capacités d'imagerie haute résolution dans le cadre de son processus d'implantation ionique. Cette imagerie permet à l'utilisateur de visualiser l'avancement du processus d'implantation, en leur donnant un plus grand contrôle sur les paramètres de l'implant et des ions optimisés pour l'application spécifique. L'outil dispose également d'une gamme de fonctions de sécurité avancées pour aider à protéger l'utilisateur et l'appareil lui-même contre les dangers associés à l'implantation ionique. Dans l'ensemble, EATON NOVA/AXCELIS GSD 200 est un implant et un moniteur ionique avancé et fiable conçu pour être utilisé dans les installations de production de semi-conducteurs. Il fournit des implants précis d'ions à haute et basse énergie dans un environnement sous vide contrôlé et avec la capacité d'être surveillé avec précision. Il intègre également des capacités d'imagerie haute résolution pour assurer la précision du processus d'implantation. C'est un outil précieux pour toute installation de production de semi-conducteurs et fournit aux utilisateurs les outils de précision et de mesure nécessaires pour diverses applications d'implantation ionique.