Occasion EATON NOVA / AXCELIS GSD 200 #9395836 à vendre en France
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ID: 9395836
Taille de la plaquette: 6"
Implanter, 6"
Gases: B / As / Ar
Energy: 200 keV
Throughput: 210 Pieces / Hour
25-Slots cassettes
(4) Cassettes
ELS Source head
(2) Sun workstations
VME 177 Cell controllers
(2) SDS Gas lines (ASH3 and PH3)
(2) HEWLETT-PACKARD Gas lines (BF3 and Argon)
P-Shower electron
Post acceleration high voltage, 80 keV
Belt type rotary drive
Variable implant angle
2-Axis
Real time patented dose controller
Dose range: 5E11~1E16 Ions / cm²
Arm: Standard, 8"
Wafer holder: Standard, 8"
Beam energy: 1 MeV
Beam current: 1 mA
CE Marked
Power supply: 208 V, 3-Phase, 170 A.
EATON NOVA/AXCELIS GSD 200 est un implant et un moniteur ionique de haute performance conçu pour répondre aux besoins des industries semi-conductrices, médicales et scientifiques. Il est conçu et construit pour respecter les normes mondiales les plus strictes en matière de qualité et de performance dans les processus d'implantation et de surveillance des ions. AXCELIS GSD 200 est capable de fonctionner à des niveaux de haute température, de tension et de courant pour obtenir des performances et une cohérence supérieures des profils d'implants. Il dispose d'un équipement de contrôle avancé et performant capable de contrôler avec précision les paramètres du faisceau d'ions, en particulier la dose d'implant, la température du substrat et les accélérations pour assurer des caractéristiques de faisceau exceptionnellement uniformes et répétables. Le système offre également une large gamme de fonctionnalités facultatives pour améliorer le contrôle du processus d'implantation, y compris la direction des faisceaux, l'enregistrement des données, les portes optiques et d'autres fonctionnalités. Outre des performances supérieures, l'EATON NOVA GSD 200 est également très économe en énergie, utilisant un fonctionnement à basse tension pour améliorer les performances avec moins de pièces mobiles et de composants. Cela réduit considérablement la consommation d'énergie, ce qui se traduit par un fonctionnement économe en énergie. De plus, l'unité offre d'excellentes capacités de surveillance des processus grâce à ses systèmes de surveillance avancés, tels que la surveillance des rayonnements et des gaz, la détection du vide et sa machine de surveillance du profil des implants à haute sensibilité. Cela assure un contrôle précis du processus d'implantation, améliorant le rendement du produit et l'efficacité du processus. Dans l'ensemble, GSD 200 est un implanteur et un moniteur ionique de qualité supérieure et à haut rendement énergétique, capable de contrôler avec précision les paramètres des implants, la surveillance des processus et des fonctionnalités optionnelles avancées pour améliorer le contrôle des processus. Il est conçu pour répondre aux normes mondiales les plus élevées en matière de qualité et de performance et améliore le rendement des produits et l'efficacité des procédés.
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