Occasion EATON NOVA / AXCELIS GSD 200 #9399024 à vendre en France

EATON NOVA/AXCELIS GSD 200 est un implant ionique de haute performance pour l'industrie des semi-conducteurs qui fournit un procédé d'implantation très précis et de qualité. AXCELIS GSD 200 utilise des sources d'ions puissantes pour introduire des dopants dans le matériau du substrat avec un degré de contrôle relativement élevé. Ceci assure le dépôt des dopants avec la précision nécessaire et dans les rapports souhaités dans la couche de substrat. EATON NOVA GSD 200 est conçu pour l'automatisation ultime et la rentabilité, avec une technique d' « augmentation directe du substrat » (DSI) où la source d'ions peut être augmentée rapidement, permettant des doses d'implants plus rapides et plus cohérentes. L'équipement avancé de GSD 200 surveille le courant du faisceau d'ions, permettant un contrôle précis et précis de la dose. Ce système est conçu pour traiter une large gamme d'épaisseurs de substrat avec les niveaux d'ions les plus élevés au plus grand nombre de substrats. EATON NOVA/AXCELIS GSD 200 est une unité très fiable et robuste avec une longue durée de vie. Il est conçu pour contrôler précisément les sources d'ions et garantir un faisceau cohérent sur le substrat, quelle que soit l'épaisseur. De plus, une machine brevetée de contrôle de flux permet des performances optimales avec le nettoyage plasma de la surface du substrat. Une pulvérisation de haute qualité assure le nettoyage des oxydes natifs sur les substrats et la réception de la couche aux gouttelettes d'ions en cours d'introduction. La composition physique de l'outil AXCELIS GSD 200 présente un design de pointe. Il dispose d'une technologie brevetée de source d'anneau en forme de disque, d'un canon à électrons robuste et puissant pour les courants ioniques élevés, de diagnostics radiologiques avancés sous forme de balayages azimutaux et de profils verticaux des faisceaux d'implantation, et de toute une série de systèmes de contrôle avancés pour assurer la précision. EATON NOVA GSD 200 est capable d'implanter jusqu'à 8 ions simultanément et fournit un alignement précis pour assurer la fidélité du profilage. Dans l'ensemble, GSD 200 est un actif d'implantation de qualité supérieure conçu pour fournir le processus d'implantation le plus précis et le plus rentable dans l'industrie des semi-conducteurs. Ses sources d'ions avancées, une large gamme d'épaisseurs de substrat et un contrôle cohérent du faisceau se combinent pour en faire un choix idéal pour tout processus d'implantation. Le design ultramoderne de EATON NOVA/AXCELIS GSD 200 et sa longue durée de vie en font un atout crucial pour la ligne de production.