Occasion EATON NOVA / AXCELIS GSD 200E2 #293721217 à vendre en France

ID: 293721217
Style Vintage: 2004
Medium current implanter 2004 vintage.
Le système Eaton-Nova EATON NOVA/AXCELIS GSD 200E2 est un implant ionique et un moniteur. Il s'agit d'un implanteur ionique haute précision et haute performance, idéal pour le contrôle des semi-conducteurs et des processus électroniques avancés. Il dispose d'une source de faisceau d'ions 200keV, 500W avec une large gamme de faisceaux, un décathode étanche, et un équipement d'injection de gaz à deux étages. Il comprend également un moniteur de précision et une interface numérique. AXCELIS GSD 200E-2 peut être utilisé avec une variété de gaz de procédé qui comprennent le bore, l'arsenic, le phosphore, le fluor et le gallium, ainsi que d'autres. Sa large gamme de poutres et un large choix de matériaux de substrat le rendent idéal pour une variété de tâches de contrôle de processus. Il peut être utilisé pour traiter des matériaux semi-conducteurs pour des circuits intégrés à haute densité et à haut débit (IC), des composants à haute température et résistants au rayonnement et d'autres matériaux électroniques avancés. EATON NOVA GSD 200 E2 dispose également d'un système de contrôle robuste, y compris un moniteur numérique haute résolution. Cela permet un contrôle précis des paramètres et de la dose du faisceau d'ions, ainsi que de surveiller et d'ajuster l'intensité du faisceau d'ions. De plus, l'interface numérique facilite grandement la mise en place et le contrôle de l'unité. En termes de sécurité, AXCELIS GSD 200 E2 dispose d'un certain nombre de fonctionnalités pour assurer la protection des utilisateurs. Il comprend un décathode hermétique, une isolation à double couche sur la source d'ions et une machine d'arrêt automatique. Il dispose également d'un certain nombre de structures de blindage et de filtres qui améliorent la radioprotection pour l'utilisateur. EATON NOVA GSD 200E-2 est un implant et un moniteur ionique efficace et fiable qui convient à une variété de tâches de contrôle de processus. Il fournit un contrôle précis des paramètres et de la dose du faisceau d'ions, ainsi qu'un outil de sécurité robuste. C'est un choix idéal pour ceux qui recherchent un implanteur et un moniteur ionique fiables et de haute qualité.
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