Occasion EATON NOVA / AXCELIS GSD 200E2 #293801979 à vendre en France

EATON NOVA/AXCELIS GSD 200E2 est un implant ionique à haute dose, à haut rendement et conçu pour les applications semi-conductrices et connexes. C'est une source d'ions multi-faisceaux et multi-ouvertures qui permet un dopage de haute précision et répétable des tailles de caractéristiques submicroniques. Il offre des débits de dose 10 fois plus élevés que les implantateurs conventionnels et plus de 5 fois l'uniformité du procédé. AXCELIS GSD 200E-2 utilise des équipements brevetés AXCELIS d'optique par faisceau de réfraction électronique pour fournir une uniformité supérieure des implants avec une précision et une répétabilité élevées. Le système engage les faisceaux d'électrons de plusieurs directions différentes pour fournir un champ de dose homogène plus uniforme sur toute la taille de l'échantillon. Il utilise également une unité de champ magnétique avancée pour la distribution uniforme d'énergie de faisceau (BED). EATON NOVA GSD 200 E2 est une haute précision implanter, capable d'implants avec un minimum de ± uniformité de dose maximale relative de 2,5 % et une fenêtre de rayon courte de 10 mm x 10 mm. Il dispose d'une fenêtre de processus standard jusqu'à 150 mm x 150 mm (en option jusqu'à 200 mm x 200 mm). Il peut également être configuré pour utiliser jusqu'à 5 poutres et fonctionne jusqu'à 50kV. La machine de surveillance embarquée permet aux opérateurs de suivre la progression de l'implantation. Un large éventail d'outils de diagnostic sont disponibles tels que le tracé en temps réel de la position du faisceau et l'asymétrie de focalisation, le courant du faisceau et la surveillance de l'énergie. En outre, jusqu'à quatre caméras externes et détecteurs de radiofréquences peuvent être connectés à la machine pour détecter toute anomalie ou irrégularité. L'AXCELIS GSD 200 E2 offre également une large gamme de caractéristiques de sécurité, comme un outil d'arrêt automatique de sécurité qui désactive en toute sécurité la machine en cas de panne. En outre, toutes les entrées de l'utilisateur et les paramètres de la machine sont enregistrés pour référence future. Cela garantit des installations précises et reproductibles pour des applications futures. Globalement, GSD 200 E2 est un outil idéal d'implantation et de surveillance d'ions pour les applications semi-conductrices. Ses débits de dose élevés, ses processus précis et reproductibles, ses moyens de surveillance complets et ses dispositifs de sécurité avancés garantissent un dopage fiable et sûr des dimensions des dispositifs submicroniques.