Occasion EATON NOVA / AXCELIS GSD 200E2 #293814956 à vendre en France

EATON NOVA/AXCELIS GSD 200E2 est un implant et moniteur ionique qui permet une implantation ionique précise et un contrôle de moniteur pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Cet équipement comprend une source d'ions intégrée à haute température, un transport de faisceau à vide, deux capteurs ultra-sensibles et un système MBI (Multi Beam Interlock) intégré. Cet implant ionique a été conçu pour faciliter la production précise et fiable de dispositifs semi-conducteurs et est idéal pour la production à haut volume de dispositifs micro- et macroélectroniques, ainsi que pour la recherche et le développement. L'implant ionique et le moniteur AXCELIS GSD 200E-2 fournissent une production efficace, précise et fiable avec une large gamme de paramètres d'implantation disponibles. Il utilise une source d'ions intégrée à haute température qui peut accélérer un large éventail d'ions, y compris le bore, le phosphore, l'arsenic et d'autres dopants, à des énergies élevées tout en préservant leur énergie optimale sur une large gamme de doses. Ceci facilite un large éventail d'applications, telles que l'implantation précise de profondeurs de jonction ou de jonctions peu profondes, le mélange précis et précis d'éléments dopants, et le mélange précis et précis de porteurs. L'implant ionique et le moniteur disposent de deux capteurs ultra-sensibles, le « TRIO » et le « Quadrate » qui permettent de détecter et de contrôler avec précision la position, la taille et l'énergie du faisceau. Les deux capteurs offrent une résolution et une précision supérieures, même lorsqu'ils sont exposés à des particules très énergétiques, tout en résistant aux rayonnements de soudage. L'unité MBI intégrée veille à ce que toutes les étapes d'implantation, telles que l'alignement et la stabilisation du plan focal du faisceau, soient effectuées de manière cohérente et reproductible, ce qui garantit des performances du dispositif excellentes et fiables. EATON NOVA GSD 200 E2 fournit des capacités complètes d'acquisition de données, permettant une analyse et un enregistrement polyvalents du faisceau, avec analyse et déclaration des paramètres d'implantation. Il dispose également d'une machine de contrôle automatisé des processus et de contrôle automatisé des retours, permettant des processus d'implantation efficaces, précis et reproductibles. L'outil fournit en outre la capacité de diagnostic et de rapport, ainsi que la commutation intégrée et le contrôle de la puissance. Dans l'ensemble, EATON NOVA/AXCELIS GSD 200E-2 est un excellent et très polyvalent atout pour la production de dispositifs semi-conducteurs. Il offre des processus d'implantation efficaces, précis et fiables, avec une large gamme de réglages disponibles. Il est également très fiable et durable, et est capable de manipuler une grande variété d'ions différents. En conséquence, AXCELIS GSD 200 E2 est un choix idéal pour la fabrication de dispositifs micro- et macroélectroniques.