Occasion EATON NOVA / AXCELIS GSD 200E2 #9026352 à vendre en France
Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.
Appuyez sur pour zoomer
Vendu
ID: 9026352
Ion implanter, 8"
(13) Batch wafers
Application process: High current implanter
System software Version: 4.9.1 (Sun OS)
Utility gas:
CDA, Machine air, Swagelok, 3/8" Sus male
Ar, Process air, Swagelok, 3/8" Sus male
PN2, Process vent, Swagelok, 3/8" Sus male
GN2, Purge vent, Swagelok, 3/8" Sus male
Exhaust:
(2) Environment, GEX, 500 CFM, 8" PVC, has exhaust hood
(2) RP Exhaust, SEX, 2" Sus, has exhaust hood
(1) Cyro pump, SEX, 20 CFM, 2" Sus, no exhaust hood
(1) Gas cabinet, SEX, 500 CFM, 8" PVC, 1, has exhaust hood
(1) Source cleaning exhaust, SEX, 65, 2.5" PVC, no exhaust hood
Cooling water:
(2) RP Cooling water, 14~28 psi, 5~8 GPM, 24º C, 3/8"
(1) City water, 55~75 psi, 7.5 GPM, 24º C, 1", to DI cooling water
(1) Cyro compressor, 14~28 psi, 5~8 GPM, 24º C, 1"
Endstation module:
(4) Cassette table (280 mm)
(2) Load buffer
(1) Dummy buffer
Mini-environment: Synetics
ATM Robot: OK
Notch/Flat finder: Notch type
Vacuum cassette: STD (VESPEL Support pin)
Load port interface: N/A
Beam profile oscilloscope: Tektronix TDS 210
Cell controller/version: Cell 177 (1915690, Rev. A)
Loadlock type: STD
Main SUN computer: Sparc station 5
Main monitor: 17", LCD
Second SUN computer: Yes (function unknown)
Second SUN monitor: N/A
Tape reader: NG
Printer: N/A
Process module:
Disk: Seg Si Coated, P/N: 11027061
Flag faraday with SRA: OK (11019550)
Electron/plasma shower: P-shower (1190160)
Plasma shower filament PS: Yes (EMS)
Bias aperature: Yes
Shower gas panel: Yes (STEC SEC-7320, 2 sccm)
Water bleed MFC: MKS (Type: 1150)
Ar/Xe Beamguide gas: Motor control
In-Vac arm: Yes
Wafer holder: Yes
Disk wafer clamp/unclamp: Roller type (1180270)
Gyro/Angle: NV-GSD-100
Linear drive: OK
Rotary drive: Direct drive
HYT Sensor: Yes (20SX)
Beam profile holes: N/A
Disk RGA Port: Yes
Resolving housing RGA Port: N/A
Wafer charge sensor: Yes
P-Shower charge monitor: Yes
P-Shower disk current: Yes
Loadlock controller type: 4-Axis DI
In-air wafer xfer controller: 4-Axis DI
Robot controller: 4-Axis DI
Beamline module:
HV Power supply: Hitek Power Inc.
HV Stack: OL8000/104/30, 100 KV
Post Accel. Volt: N/A
Extraction suppression PS: Glassman, PS/NV-15NN33, 2200158
AMU: Acelis
AMU PS: EMS 40-150-2-D0816
Hall probe: Axcelis
Max. extraction voltage: 90 KeV
Beam profiler hole: N/A
Decel function: N/A
Beamline purge kit: N/A
Source module:
Source head/vaporizer: ELS/No vaporizer
Filament PS: EMS 10-60
Arc PS: EMS 150-7
Cathode PS: yes
Vaporizer PS: N/A
Source magnet: Axcelis
Source magnet PS: EMS 25-25
Source bushing: Orange
Extraction assembly: Yes
Variable resolving aperture: Yes
Source ISO Transformer: STD
Source injection kit: N/A
Source cleaning exhaust: Yes
Block type: N/A
Gas box module:
Gap Loop #1: Ar, HP
Gap Loop #2: BF3, SDS
Gap Loop #3: AsH3, SDS
Gap Loop #4: PH3, SDS
Loop #1 MFC: MKS 1179A-14493, Ar, 10 sccm
Loop #2 MFC: MKS 1640A-011, BF3, 10 sccm
Loop #3 MFC: MKS 1640A-011, AsH3, 10 sccm
Loop #4 MFC: MKS 1640A-011, PH3, 10 sccm
Vacuum system:
P1/Source turbo: A2203C, SEIKO SEIKI
P1 Controller: STP-A2203C, SEIKO SEIKI
P2/Beamguide Cyro pump: CTI OB-8
P3/V3 Cyro pump: CTI OB-10
P9/Disk Cyro pump: N/A
RP1: Remote
RP2: Remote
IG1: SUZUKI G-75-NTT
P IG1: SUZUKI G-75-NTT
IG2: SUZUKI G-75-NTT
IG3: Stabile ion gauge
IG Controller: M/N: 360
Safety options:
(4) Smoke detectors
VESDA: N/A
CES Options: N/A
Others:
(2) Ground bars
Enclosures: OK
Ground indication lamp: N/A
INO Kit: N/A
Drawings/Manuals: N/A
SECS/GEM Function: OK
System 24V UPS: N/A
Light tower: G/Y/R
SPC Function: OK
Does controller pcomp. algorithm type: Turbo dose DI (1526990)
Spare parts: N/A
Alignment tools: N/A
Sub-systems:
Main Transformer: TAVR, 3 Phase, 60 Hz, 50 KVA, Pri. 440 V
RP1: Ebara, A70WN
RP2: Ebara, A70W
Compressor 1: CTI_CRYOGENICS, 9650
Input power: 208 V, 60 Hz, 3 Phase, 95 A, 35 KVA
Output power: 90 KeV, 20 mA
2001 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS GSD 200E2 est un implant et un moniteur ionique développé par AXCELIS, une division d'EATON NOVA Technologies, Inc. Il offre des performances, une fiabilité et une polyvalence supérieures pour les processus d'implantation ionique. AXCELIS GSD 200E-2 offre une large gamme de profondeurs et de diamètres d'implants, jusqu'à 8 kV et 3,0 T/m respectivement. Il intègre une conception de ligne de faisceau fermée, et est équipé de systèmes de gaz de source et de ligne de faisceau. Les systèmes à gaz, réglés depuis l'extérieur de la ligne de faisceau, fournissent l'énergie particulaire optimale, la pression de travail, les formes angulaires et la position du filament. EATON NOVA GSD 200 E2 est équipé d'un système de commande de pointe pour le fonctionnement manuel et automatisé. Depuis l'écran tactile, l'utilisateur peut contrôler la pression de la chambre, les filaments et les réglages. Il dispose également d'une fonction de diagnostic intégrée qui permet à l'opérateur de surveiller le système en temps réel et à distance, y compris la température, la tension et les niveaux de gaz. EATON NOVA/AXCELIS GSD 200E-2 est construit avec un obturateur mécanique amovible, qui offre une sécurité et une précision supplémentaires. En termes de sécurité et d'autres caractéristiques de performance, AXCELIS GSD 200 E2 est équipé d'une enceinte acoustique, ainsi que d'enceintes à rayonnement et à vide qui répondent aux exigences de sécurité du traitement des semi-conducteurs. AXCELIS GSD 200E2 est le seul implant et moniteur ionique capable de fournir des lectures rapides et précises sur le marché des services d'implantation haute performance. Non seulement GSD 200E2 fournit des implantations précises, mais il surveille et contrôle l'environnement tout au long du processus. Il est capable de détecter et de répondre aux trajectoires des particules, au profil du faisceau et aux paramètres statistiques. Grâce à des capteurs avancés et à la conception logicielle, le système est en mesure d'assurer des performances d'implantation précises et moins de dommages aux particules. De plus, EATON NOVA/AXCELIS GSD 200 E2 permet une implantation serrée des particules du centre. Ceci est essentiel pour les processus technologiques, comme MEMS et autres micro-appareils de fabrication. EATON NOVA GSD 200E-2 présente également une large gamme de types et de tailles de particules, ainsi que des commutations à grande vitesse entre différentes espèces d'ions. Avec une grande précision et une dégradation minimale, GSD 200E-2 est l'implant ionique le plus performant et le moniteur sur le marché.
Il n'y a pas encore de critiques