Occasion EATON NOVA / AXCELIS GSD 200E2 #9312589 à vendre en France
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Vendu
ID: 9312589
High current implanter, 8"
SMIF System: Interface
Handle systems:
SDLC System
In air robot
Load buffer
Dummy buffer
Vacuum cassette
Tilt stand
Notch aligner
Process chamber:
Batch
Disk 13-pads, 8"
In-vacuum arm
Wafer holder
AFFINITY Disk chiller
AFFINITY Single close loop cooling chiller
Vacuum system:
CTI-CRYOGENICS 8200 Cryo compressor
CTI-CRYOGENICS 9700 Cryo compressor
CTI-CRYOGENICS OB 8 Beam line cryo pump
CTI-CRYOGENICS OB 10 Beam line cryo pump
No process cryo pump
EDWARDS STP-2203C Source high vacuum pump
EDWARDS QDP Rough pump
HCIG Vacuum gauge controller
End station:
4-Cassette table
Wafer aligner type: Notch aligner
Wafer handling system: In air / In vacuum high throughput
Particle filter system: Class 1 UPLA
Implant angle:
2-Axis variable: ± 7°
Quad implant capability
Process disk spindle: GSD Direct drive
Beam monitor system:
In situ beam potential monitor
Real-time patented dose control
Real-time beam profiler (1D)
Process disk: Silicon coated UHD small radius fences
Process disk cooling interlock
ASYST LTP2000 SMIF Interface
Gas box option:
Modular gas box / 4-Strings option
1 HP (MFC Unit 1660)
3 SDS (MFC Unit 1662)
Extraction power supply: 90 keV
Extraction voltage monitor
Vaporizer
Ion source: ELS
Source bushing: Extended life bushing
Extraction electrode: Type 34
Source injection kit
AMU System: Triple index
Post accel power supply: 90 keV
Post accel electrode
Terminal isolation transformer: Dry transformer
Bias aperture assembly
Flag faraday
Secondary electron flood gun: PEF
Control UPS
Main isolation transformer
Smoke detector
Exhaust flow switch
Water leak sensor
Light tower
No real-time particle detection
Earthquake retrofit
SUN Solaris operator workstation
Hard Drive Drive (HDD)
LCD Monitor, 21"
SECS I and SECS II Protocols
GEM Interface and Ethernet ports
CIM: Solaris
2006 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS GSD 200E2 est un équipement d'implantation et de surveillance d'ions conçu pour fournir des performances supérieures en matière d'implantation d'ions, de contrôle des processus et d'uniformité. Le système offre une variété de configurations pour l'implantation ionique à haute énergie d'espèces ionisées et non ionisées avec des performances et une précision exceptionnelles. AXCELIS GSD 200E-2 est une unité multi-axes qui combine une machine de balayage et d'accélération à 2 axes avec un outil d'asservissement à 4 axes pour le ciblage et l'optimisation de l'implantation ionique. L'actif utilise un pistolet d'implantation RF de 200 mm de diamètre pour produire des ions dans un profil lisse et uniforme à travers la surface du substrat. Le mouvement du pistolet est obtenu grâce à des servomoteurs avancés et des champs magnétiques indépendants. Le modèle est équipé d'un détecteur embarqué pour surveiller le processus d'implantation. Ce détecteur peut également être utilisé en combinaison avec des stratégies de surveillance spécialisées pour contrôler la vitesse d'implantation et l'uniformité. EATON NOVA GSD 200 E2 est conçu pour répondre aux exigences sévères du traitement moderne des semi-conducteurs. Il est conforme à des règles de sécurité strictes et est équipé d'un ensemble de dispositifs de sécurité pour protéger les opérateurs contre les risques de rayonnement et les matières potentiellement dangereuses utilisées dans le processus d'implantation. En outre, l'équipement est équipé de capacités d'automatisation leader dans l'industrie, permettant un fonctionnement simple et l'optimisation du processus d'implantation. Dans l'ensemble, EATON NOVA GSD 200E-2 est un système d'implantation ionique fiable, contrôlable et précis conçu pour fournir des résultats supérieurs. Il offre un large éventail de capacités, y compris l'implantation d'ions à haute énergie d'espèces ionisées et non ionisées, un excellent contrôle des processus et un fonctionnement confortable. L'unité répond également à des exigences de sécurité strictes, assurant un environnement de travail agréable et sûr.
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