Occasion EATON NOVA / AXCELIS GSD #9103073 à vendre en France

EATON NOVA / AXCELIS GSD
ID: 9103073
Taille de la plaquette: 8"
Ion implanter, 8".
EATON NOVA/AXCELIS GSD est un équipement d'implantation et de surveillance ionique créé par Eaton AXCELIS Pte. Ltd. Ce système est spécialement conçu pour l'implantation d'ions de haute énergie tels que le bore, le phosphore et l'arsenic dans des matériaux pour diverses applications, telles que la fabrication de semi-conducteurs et la transformation de matériaux avancés. Il est capable d'appliquer des énergies Implant jusqu'à 7 mesaVolt et supporte une gamme de substrats, jusqu'à 14 pouces de diamètre. L'unité utilise une machine de remplacement de gaz direct pour améliorer la stabilité et l'uniformité du faisceau d'ions. AXCELIS GSD offre un ensemble puissant de fonctionnalités pour améliorer les capacités de travail de l'utilisateur. Il comprend un outil de distribution du flux de gaz qui utilise une source de double ion configurable pour deux espèces d'ions. Ceci permet à l'utilisateur de contrôler indépendamment les quantités des ions pour améliorer l'uniformité et la qualité du faisceau. L'unité est équipée de fonctions de surveillance avancées, telles que quatre canaux Ion Source Temperature Control et le positionnement du faisceau, permettant un contrôle plus strict sur les paramètres du faisceau. Un collecteur de protection est également fourni pour aider à éviter la surionisation des échantillons. L'actif dispose également d'un modèle automatisé de centrage et de cisaillement des faisceaux qui peut contribuer à améliorer encore l'uniformité du faisceau d'ions. Cet équipement dispose également d'un système complet d'acquisition de données avec logiciel de conversation, permettant à l'utilisateur de surveiller avec précision les paramètres du processus d'implant et d'effectuer les ajustements nécessaires. En outre, l'unité dispose d'une machine numérique intégrée de traitement du signal qui peut aider à minimiser tout cas d'ionisation persistante de l'échantillon ou des erreurs et irrégularités liées à la machine. Enfin, le microscope électronique à balayage équipé permet à l'utilisateur d'observer le faisceau et le substrat et les effets du processus d'implantation. EATON NOVA GSD est un outil d'implantation et de surveillance des ions hautement avancé, fiable et polyvalent. Sa configuration de source à double ion, son centrage automatisé des faisceaux et son shimming, ses systèmes d'acquisition de données et de traitement numérique du signal fournissent à l'utilisateur un contrôle sans précédent sur le processus d'implantation. De plus, le collecteur de protection, le microscope électronique à balayage intégré et le contrôle de la température et du positionnement des faisceaux de quatre canaux de la source d'ions donnent à l'utilisateur un niveau plus élevé de sécurité et de précision pour son travail d'implantation. En résumé, GSD est le choix idéal pour ceux qui recherchent un actif avancé d'implantation et de surveillance des ions.
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