Occasion EATON NOVA / AXCELIS GSD #9210440 à vendre en France
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Vendu
ID: 9210440
Taille de la plaquette: 6"
Ion implanter, 6"
Energy: 160 keV
(17) Batch wafers
Utility configuration:
Tool specification:
Line power:
Input power: 208VAC, 3 Phase, 60Hz, 130A, 42kVA
Output power: 160KeV, 20mA
Utility gas:
Name / Connection type / Size
CDA / SWAGELOK / 3/8” SUS Male
Ar / SWAGELOK / 3/8” SUS Male
PN2 / SWAGELOK / 3/8” SUS Male
GN2 / SWAGELOK / 3/8” SUS Male
Gas box N2 / SWAGELOK / 3/8” SUS Male
Exhaust:
Qty / Description / Type / Flow rate (CFM) / Size / Exhaust hood
(2) / Environments / GEX / 500 / 4", PVC / Y
(1) / Cryo pump / SEX / 40 / 1", SUS / Y
(2) / Gas cabinets / SEX / 600 / 2", PVC / Y
(2) / RP Exhausts / SEX / 100 / KF-40, Clamp / Y
Cooling water:
Description / Pressure (PSI) / Flow rate (GPM) / Temperature (°C) / Size
City water / 100 / 20 / 25 / 1", SUS, Clamp
DI Water refill / Manual / Manual / - / 1", PVC, Clamp
System configuration:
End station module:
Notch / Flat finder: Flat
Cassette type: Standard
Dummy cassette
Load buffer
Vacuum cassette
(4) Cassette tables
Cell controller
Loadlock type: GSD100/200
Process module:
Disk: NV-GSD
In-vac arm
Wafer holder
Pedestal
Gyro: NV-GSD-100
Linear drive
Belt drive
Beamline type: GSD 200
Maximum extraction voltage: 160KeV
AMU: Axcelis
Source module:
Source head: IAS
Filament PS: EMI EMS 10-60
Arc PS: EMI EMS 150-7
Source magnet PS: EMI EMS 40-25
Source bushing
Source injection: MKS 1640
Vacuum system:
P1 / Source turbo: STP-A2000C
P2 / Resolving cryo pump: CTI
P3 / V3 Cryo pump: CTI
(3) Ground bars
Sub-systems:
NESLAB HX-150
CTI 8300/8500
1994-1995 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS GSD est un implant ionique et un moniteur conçu pour des applications d'implantation ionique à haut débit. Il peut être utilisé pour traiter une variété de matériaux, y compris des semi-conducteurs, des céramiques et des films minces. L'appareil fonctionne sur un logiciel propriétaire, AXCELIS GSD Implantation Software, qui permet un contrôle de processus flexible et optimisé. Le processus d'implantation est accéléré par un diodégun, capable de délivrer de l'énergie élevée, et une ligne de faisceau à 12 voies permet d'utiliser de multiples espèces/énergies d'implants de manière indépendante. Il dispose d'un mandrin en plaquette de 410 mm carré et d'une architecture à chambre fixe pour permettre des opérations à haut débit. Le processus est surveillé avec une gamme de capteurs qui mesurent le courant ionique, la pression, la température, le débit de gaz et la position de la plaquette. L'appareil intègre également des systèmes de diagnostic et de contrôle de rétroaction avancés qui permettent une mesure rapide et précise des paramètres critiques du processus. En outre, des outils d'analyse pour l'examen post-implantation et l'optimisation des processus sont inclus dans le progiciel. Le système de contrôle intelligent EATON NOVA GSD optimise l'implantation pour réduire le temps de cycle, minimiser les coûts totaux et garantir la plus grande précision d'implantation. Pour assurer la sécurité pendant les opérations, l'appareil dispose de plusieurs systèmes de sécurité, y compris des dispositifs de sécurité et des alarmes pour la détection des fuites. Son agencement modulaire permet également une installation, un fonctionnement et une maintenance faciles. Ce système polyvalent est utilisé sur les marchés industriels, y compris les appareils médicaux, les composants aérospatiaux et automobiles, ainsi qu'à des fins de recherche et de développement. Il offre une excellente plate-forme pour le travail de R&D et la fabrication à haut volume.
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