Occasion EATON NOVA / AXCELIS HE3 #293651196 à vendre en France
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EATON NOVA/AXCELIS HE3 est un système avancé d'implantation et de surveillance ionique conçu et fabriqué par Eaton AXCELIS Technologies. Le dispositif est un implanteur ionique lourd à haute énergie, capable de produire une implantation précise et de haute qualité de matériaux dans des plaquettes semi-conductrices. La machine est équipée de systèmes avancés de surveillance et de contrôle des processus in situ pour assurer une implantation cohérente et fiable de toutes les plaquettes semi-conductrices. La technologie de l'EDNAXCELIS HE3 est basée sur un accélérateur de lignes de faisceau avec une source d'électrons de 60 MeV comme source d'énergie et un faisceau d'ions de haute énergie accéléré jusqu'à 1-20 * 107 eV plage d'énergie. Ce niveau d'énergie permet d'adapter le processus d'implantation aux exigences spécifiques des différentes normes de production des plaquettes. Le dispositif est équipé d'une gamme de caractéristiques qui optimisent le processus d'implantation, de l'alignement précis de la direction du faisceau et de la distribution, au contrôle de l'énergie et de la masse des particules. Il offre également une gamme de caractéristiques supplémentaires conçues pour assurer une implantation cohérente et fiable des plaquettes. Cela inclut des mesures de sécurité telles que l'arrêt automatique et les alarmes de sécurité, permettant aux opérateurs de surveiller et d'ajuster le processus d'implantation, si nécessaire. De plus, le dispositif comporte des options telles qu'un moniteur de température, pour s'assurer que la température de la plaquette reste dans la plage de processus optimale. De plus, le dispositif comprend une série de capteurs et de moniteurs qui permettent de déterminer avec précision la quantité d'injection d'ions et les niveaux d'énergie, afin de prévenir la déviation des exigences d'endommagement de surface. EATON NOVA HE3 comprend également une série de boucles de rétroaction, permettant aux fabricants d'ajuster les paramètres en temps réel, si nécessaire. Ceci permet une implantation précise des matériaux, en tenant compte des ajustements nécessaires en raison des changements de processus ou des variations au sein des plaquettes. Enfin, la machine dispose également d'une gamme de fonctions de diagnostic, telles que la surveillance du courant, l'analyse des signaux de processus, les tensions et le diagnostic des échantillons, contribuant à assurer la qualité des plaquettes implantées. Globalement, HE3 est un système avancé et fiable spécialement conçu pour une implantation ionique précise et de haute qualité. Le dispositif a été soigneusement conçu pour répondre aux besoins des fabricants et des producteurs de semi-conducteurs, leur permettant de produire des produits de haute qualité et fiables avec un degré inégalé de précision et de cohérence.
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