Occasion EATON NOVA / AXCELIS NV 10-160 #293821332 à vendre en France

EATON NOVA/AXCELIS NV 10-160 est un implant/moniteur avancé d'ions qui est utilisé pour implanter des ions dans divers substrats afin d'améliorer leurs propriétés. Cette machine est utilisée dans l'industrie de la fabrication de semi-conducteurs et peut être utilisée pour implanter une large gamme d'ions dans les substrats. AXCELIS NV10-160 dispose d'une source d'ions puissante et de paramètres de faisceau réglables, lui permettant d'implanter des ions dans des substrats avec un contrôle précis. EATON NOVA NV 10160 est équipé d'un faisceau d'ions de 10 cm x 160 degrés. Cela lui permet d'implanter des ions avec une précision de +/- 10 micromètres par 100mm dans l'axe des x et +/- 1 degré dans l'axe des y. De plus, il a une longueur de projection allant jusqu'à 15cm, ce qui lui permet d'implanter des ions à de plus grandes distances. La source d'ions est capable de produire jusqu'à 1.6A de courant à une tension allant jusqu'à 5 kilovolts, d'où une densité de courant de faisceau allant jusqu'à 32mA/cm2. Ceci permet d'assurer une implantation uniforme du substrat avec des ions, d'où une meilleure performance du dispositif. EATON NOVA NV10-160 est également intégré à divers systèmes de surveillance. Son équipement de surveillance et de contrôle de la position du faisceau d'ions (IPMC) est capable de mesurer et d'affiner la position du faisceau avec une précision de +/- 1 micromètre dans l'axe des x et +/- 1 degré dans l'axe des y, permettant à l'utilisateur d'implanter des ions avec précision. Par ailleurs, son système de surveillance du courant et de l'intensité du faisceau (BCIM) est capable de mesurer et de contrôler le courant et l'intensité du faisceau, assurant l'implantation uniforme des ions dans les substrats. L'unité de commande électronique EATON NOVA/AXCELIS NV 10160 est conçue avec une interface graphique (interface graphique) de plusieurs pages. Cela permet à l'utilisateur de modifier les paramètres de l'implant ionique rapidement, leur permettant d'optimiser leur temps de cycle de processus. En outre, il offre divers protocoles de sécurité et de multiples garanties, assurant que l'utilisateur contrôle en toute sécurité le processus d'implant ionique. Dans l'ensemble, EATON NOVA/AXCELIS NV10-160 est une machine avancée d'implantation/moniteur d'ions. Il dispose d'une source d'ions et de paramètres de faisceau réglables, lui permettant d'implanter des ions avec un contrôle précis. En outre, il est intégré à différents systèmes de surveillance, permettant à l'utilisateur d'optimiser le temps de cycle de processus et d'assurer la sécurité de l'utilisateur.