Occasion EATON NOVA / AXCELIS NV 10-160 #9412140 à vendre en France
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ID: 9412140
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 1986
Ion implanter, 6"
Energies: 20~160 keV
Minimum beam current: 10 μA
Dose range: 5.0E12 to 5.0E15 Atoms / cm²
Beam current for 80 kev:
Energy (keV) / B11 (mA) / As75 (mA) / P31 (mA)
20 / 0.5 / 0.2 / 0.3
40 / 1 / 1.5 / 1
80 / 2 / 3 / 2.5
140 / 3 / 5 / 5
Throughput:
Batch size: 10 Wafer
Throughput: 100 WPH
Maximum implant time: 120 Sec
Vacuum performance:
Diffusion pump: ≤5.0E-06 Base pressure (Torr)
Cryo-Torr 8 Pump: ≤5.0E-06 Base pressure (Torr)
Cryo-Torr 8 Pump: ≤5.0E-06 Base pressure (Torr)
Maximum wafer temperature control: 100°C
X-Ray emission ≤0.6μ Sievert / hr (60μ rem / hr) at 150 mm
No UPS
Power supply: 208 VAC, 3 Phase, 4 Wire, 45 kVA, 125 Amp, 60 Hz
1986 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS NV 10-160 est un implant et un moniteur ionique à haute énergie conçu pour fournir une implantation ionique précise et précise nécessaire à la fabrication de micropuces et autres dispositifs semi-conducteurs importants. Cette machine utilise des faisceaux d'ions, qui sont accélérés et précisément focalisés et scannés sur un substrat cible pour modifier les propriétés du substrat, créant des motifs précis et des structures complexes. AXCELIS NV10-160 est un outil très fiable pour une implantation ionique précise et sûre. Il est alimenté par la Central Processing Unit (CUP) d'Eaton et comprend un ensemble de dispositifs de sécurité intégrés pour prévenir les accidents, y compris un système de surveillance de faisceau indépendant, un interrupteur haute tension, une cage de faisceau d'aluminium et une conduite de gaz haute pression pour une manutention sûre du gaz. EATON NOVA NV 10160 fonctionne à une tension de crête de 160 kV et à une dose maximale d'implantation de 1e + 13 ions/cm ². Cette machine a un courant de faisceau jusqu'à 40mA, assurant un contrôle précis de la dose d'implantation, de l'énergie, de la tension et du courant. De plus, NV 10160 est équipé d'un système d'analyse informatisé qui fournit des données précises et précises sur les implants, y compris le profilage de profondeur, la densité de courant et la dose. Grâce à cette technologie de pointe, AXCELIS NV 10-160 peut être utilisé pour implanter une grande variété de matériaux tels que le silicium, le germanium, l'aluminium, le fer et d'autres métaux et polymères. Il est également capable d'implanter des dopants, notamment de l'arsenic et du phosphore. Sa grande taille de chambre permet d'implanter de grands substrats sans compromettre la précision et l'homogénéité. EATON NOVA/AXCELIS NV10-160 est un outil idéal pour la fabrication de semi-conducteurs avancés et d'autres composants sophistiqués. Sa précision et sa fiabilité en font le choix idéal pour les laboratoires de recherche, les usines industrielles ou tout autre environnement nécessitant une implantation ionique précise. En bref, EATON NOVA/AXCELIS NV 10160 est un outil inestimable pour ceux qui ont besoin du plus haut niveau de précision et de précision dans toute application d'implant ionique.
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