Occasion EATON NOVA / AXCELIS NV 10-80 #9227038 à vendre en France
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Vendu
ID: 9227038
Implanter
Specifications:
System characteristic / Design specification (1978) / Performance specification (1982)
Energy / 10-60 keV / 5-80 keV
Beam current P,As
60-80 keV / 10 mA / 12.5 mA
40 keV / 10 mA / 10.0 mA
Sb 40-80 keV / 5 mA / 6.0 mA
B 40-80 keV / 5 mA / 4.0 mA
Throughput P,As
Up to 3E15, 3" / 300 / 235
100 mm / 200 / 350
125 mm / - / 175
1E16, 3" / 150 / 190
100 mm / 100 / 125
125 mm / 70 / 88
B up to 1E15, 3" / 300 / 330
100 mm / 200 / 230
125 mm / 150 / 165
1E16, 3" / 80 / 80
100 mm / 50 / 50
125 mm / 30 / 33
Doping uniformity:
1σ across wafer, 5" / 0.75 / 0.5
Doping reproducibility:
1σ wafer to wafer / 0.5 / 0.5
Ion mass range / 1-150 / 1-130
Ion mass resolution M/∆M fwhh / 65c / 75
Wafer cooling / 140°C @ 600W / 100°C @ 1200W
Facilities requirements:
Power: 30 kVA
Air: 100 PSI, 4 cfm
N2: 5 PSI, 0.14 cfm
H2O: 40 PSI, 5 gpm
Exhaust: 1000 cfm
2000 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS NV 10-80 est un appareil puissant et fiable conçu pour l'implantation d'ions dans des substrats. Le dispositif est capable d'implanter de nombreux ions tels que le bore, l'arsenic, le phosphore, l'antimoine, le soufre, etc. Il est équipé de divers composants qui assurent un contrôle précis du processus et facilitent un fonctionnement facile et précis. AXCELIS NV 10-80 se compose de trois parties principales : l'étage de plaquettes, la source d'ions et le moniteur. L'étage de plaquette est utilisé pour contrôler la position du substrat lors de l'implantation, permettant un placement précis et répétable des ions. La source d'ions, composée de cathode magnétron et de canons à électrons, est utilisée pour générer et accélérer les ions vers les substrats. Le moniteur, composé de détecteurs à l'état solide, mesure le flux des ions au cours du processus d'implantation. EATON NOVA NV 1080 fonctionne à l'aide d'un système piloté par ordinateur qui automatise le processus d'implantation. Il peut contrôler de nombreux paramètres, tels que les types d'ions, les énergies ioniques, les taux de frappe ionique, les niveaux de dose et le positionnement des plaquettes. Cela garantit des résultats d'implantation précis et permet aux utilisateurs d'optimiser l'efficacité et la précision de l'implantation. Il est également équipé de dispositifs de sécurité, y compris des emboîtements et des limites de puissance. NV 1080 est conçu pour une large gamme d'applications, y compris dans la fabrication de semi-conducteurs, MEMS, LED, optoélectronique, et les traitements biomédicaux. Il est compatible avec différents matériaux, dont le silicium, l'aluminium, le zinc, le tellure et le titane, et avec une large gamme d'angles d'implantation. EATON NOVA NV 10-80 est un appareil fiable et puissant qui fournit d'excellents résultats d'implantation. Son système automatisé contrôlé par ordinateur assure une implantation précise et précise, et sa gamme de fonctionnalités permet aux utilisateurs d'optimiser l'efficacité et la précision de l'implantation. Il est adapté à une grande variété d'applications et de matériaux de substrat, ce qui en fait un dispositif polyvalent et hautement adapté pour l'implantation ionique.
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