Occasion EATON NOVA / AXCELIS NV 10-80 #9412142 à vendre en France

ID: 9412142
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 1986
Ion implanter, 6" (4) Sources Ion beam energy: 20~80keV Dose range: 5.0E12 - 5.0E15 atoms / cm² Minimum beam current: 10µA Wafer temperature: 100°C X-Ray emission: ≤0.6μ Sievert / hr (60μ rem / hr) Charge control technology: Secondary Electron Flood (SEF) Mechanical throughput: Batch size: 10 wafers Throughput: 100 WPH Maximum implant time: 120 sec Dose control: Bare Si Wafers: ≤3.0% Photoresist wafers: ≤4.0% Beam current for 80kev: Energy(keV) / B11(mA) / AS75(mA) / P31(mA) 20 / 0.5 / 0.2 / 0.3 40 / 1 / 1.5 / 1 80 / 2 / 3 / 2.5 Vacuum performance: Subsystem / Pump / Base pressure (Torr) Source / Diffusion pump / ≤5.0E-06 Beamline / Resolving housing / Cryo Torr8 / ≤5.0E-06 Resolving housing / Process chamber / Cryo Torr8 / ≤5.0E-06 1986 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS NV 10-80 est un implant ionique avancé et un moniteur utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour configurer des circuits intégrés et d'autres composants microélectroniques. Il permet des ajustements précis de la surface et de la micro-structure interne des matériaux pour créer des caractéristiques sub-microns dans les processus industriels. Cet équipement est idéal pour ceux qui recherchent une amélioration très fiable, peu coûteuse et fiable des performances des matériaux dans la fabrication. AXCELIS NV 10-80 fonctionne à l'aide d'une chambre à plasma haute tension et d'un réseau multi-ondes programmable. La pression et le débit plasmatiques sont précisément contrôlés à l'aide du réseau intégré et la concentration des espèces ioniques requises est contrôlée par l'équipement de piège gaussien sur place. L'énergie de sortie du faisceau, précisément contrôlée, est distribuée à la surface cible, ce qui permet de contrôler largement le processus d'implantation. Le système de surveillance avancé d'EATON NOVA NV 1080 permet à l'utilisateur de maintenir une qualité constante d'implantation même lors du traitement de composants complexes. Les capacités diagnostiques en temps réel de l'unité fournissent une caractérisation détaillée des paramètres du faisceau et des défauts associés. Cela permet de détecter presque immédiatement la non-conformité et de corriger le processus et d'implanter des matériaux spécifiques de façon ciblée. La surveillance onshore Overlap est disponible pour la surveillance simultanée du chevauchement de deux sites de faisceau dans le même plan, ce qui aide les opérateurs avec des diagnostics rapides et des chevauchements dynamiquement modifiés. La machine est conçue avec souplesse et ergonomie à l'esprit et dispose d'une console de fonctionnement standard, de trois tables de fonctionnement séparées et d'une machine de positionnement modulaire. Il est équipé d'un outil de contrôle basé sur PC, capable d'automatiser un large éventail de tâches de suivi et de contrôle des processus. Parmi les autres caractéristiques, mentionnons une source d'ions Lithium de précision, un type d'ions programmables, un courant de faisceau d'ions et une plage de dose, ainsi qu'un atout facile à utiliser pour la saisie et l'analyse des données. Pour un maximum de sécurité et de commodité, EATON NOVA NV 10-80 est certifié pour les normes de sécurité CE et UL. Sa construction et son fonctionnement sont extrêmement fiables et sûrs, ce qui en fait un choix idéal pour le traitement de précision. Assurant des performances de processus maximales dans toutes les applications, la machine offre des résultats fiables grâce à son modèle de contrôle avancé et produit une implantation constante de haute qualité.
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