Occasion EATON NOVA / AXCELIS NV 3206 #9105737 à vendre en France

EATON NOVA/AXCELIS NV 3206 Ion Implanter and Monitor est un équipement de moyenne capacité conçu pour l'implantation ionique de haute précision et la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il est doté d'un Tandem Mass Analyzer, une technologie brevetée à trois fenêtres qui garantit la précision et la répétabilité des implants d'un substrat à l'autre. Le moniteur offre une large gamme de taux d'implantation, avec jusqu'à quatre poutres qui peuvent travailler simultanément pour le placement de haute précision de tout type de matériau implantable. AXCELIS NV 3206 est idéal pour la fabrication d'éléments semi-conducteurs, y compris les appareils électroniques et photoniques, ainsi que pour les systèmes microélectromécaniques (MEMS). Il est équipé d'un courant de 1 000 ampères par centimètre carré et d'une capacité de dose d'implantation pouvant atteindre 90 microampères par centimètre carré avec une précision de masse inférieure à 1 partie par million. L'interface utilisateur pilotée par ordinateur de l'appareil permet des programmes d'implants précis définis par l'utilisateur qui comprennent des paramètres d'implantation tels que la dose, l'énergie, la fréquence et la taille des points. Le système comprend également une unité d'extraction de faisceaux d'ions conçue pour minimiser le nombre de particules de fond et pour assurer la répétabilité la plus élevée possible dans diverses opérations d'implantation. Doté de décalages de faisceau de haute précision, le moniteur permet une large gamme de combinaisons d'énergie et de courant afin de permettre des opérations d'implantation ionique de haute précision. En outre, le contrôle du champ E à bande passante élevée de la machine dispose d'un choix de deux profils de champ E optimisés et d'un mode de polarité variable pour le nivellement du substrat. EATON NOVA NV 3206 est un outil fiable et polyvalent pour optimiser les performances de production et d'implantation de prototypes. Sa conception des sources d'ions réduit les temps d'arrêt et améliore les rendements de production globaux. Il dispose également d'un actif de transport de faisceau stabilisé par inertie qui assure la pureté du faisceau et améliore les propriétés d'imagerie du dispositif. Grâce à ses fonctions intégrées de surveillance et de diagnostic, le moniteur permet une rétroaction et une analyse rapides et précises des opérations d'implantation.