Occasion EATON NOVA / AXCELIS NV 6200A #293628042 à vendre en France
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ID: 293628042
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 1990
Implanter, 6"
Energy: 5 to 200 kV
Accel PS: 180 kV
Extraction: 20 kV
Neutral gas: Argon
Hot source with oven
(3) Gas box lines with mass flow
(2) External gas box lines
Extraction housing
Magnet range: 125 Standard voltage
Dose uniformity and repeatability: 1 σ < 0.5%
Type: Dual platen, continuous through put, cassette to cassette
Fully automatic, pick and place
Throughput: 250/hr
Wafer tilting: 0 To 10°
Wafer orientation: 0 To 360°
Wafer breakage: Less 1 wafer out of 20000
Cooling water: 3 GPM with 80°F
Input temperature: 30 - 60 PSI
Compressed air supply: 90 - 125 PSI
Dry nitrogen: 60 - 70 PSI
Heat dissipation:
Air: 16750 BTU/hr
Water: 49000 BTU/hr
Exhaust air volume:
Gas box: 300 CFM (minimum)
H.V Terminal: 300 CFM (minimum)
Power: 24 kVA, 208 V, 3 Phase, 5 Wire, 50/60 Hz
1990 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS NV 6200A est un implant et moniteur ionique avancé qui a été créé afin de fournir un traitement très précis, précis et fiable de l'implantation ionique. Cela permet à l'utilisateur d'avoir des performances de fabrication maximales indépendamment des espèces d'ions, de la dose et de la gamme d'énergie. AXCELIS NV 6200A est l'un des premiers équipements dans le domaine de l'implantation ionique. La conception d'EATON NOVA NV-6200A joue un rôle important dans son succès. Cette machine est équipée d'un équipement chauffé, auto-nettoyant, à quartz sous vide et est adaptée aux technologies de gaz inerte et de diodes. Sa version ultra-haute dépression (UHV) est idéale pour les ions hydrocarbures ultra-basse énergie. Cette machine utilise également une technologie de champ radial propriétaire qui permet de réaliser des profils d'implantation multi-points très uniformes. En outre, EATON NOVA/AXCELIS NV-6200A est conçu pour accueillir une gamme de procédés semi-conducteurs qui permettent une plus grande flexibilité dans les opérations d'implantation complexes. AXCELIS NV-6200A dispose également d'un moniteur intégré qui permet la rétroaction et le contrôle en boucle fermée. Ce système permet à l'utilisateur de surveiller le courant, la pression et le débit de gaz du faisceau de particules pour le réglage et la correction en temps réel. En outre, le moniteur peut également diagnostiquer diverses conditions unitaires et permettre un entretien préventif afin d'assurer un fonctionnement fiable jusqu'au niveau du nanomètre. Grâce à cela, l'utilisateur peut s'assurer que les conditions du processus sont maintenues en forme de pointe, ce qui rend possible l'analyse de résonance nucléaire. Dans l'ensemble, NV 6200A est un équipement puissant et fiable capable de répondre aux exigences de traitement des semi-conducteurs les plus complexes et les plus avancées. Il permet à l'utilisateur de réaliser des processus d'implantation très précis et précis en utilisant une gamme d'espèces, de doses et d'énergies ioniques. En utilisant la technologie de champ radial ainsi qu'une machine de surveillance intégrée, cette machine aide à s'assurer que les performances de fabrication sont maximisées et que tout nombre de processus sont terminés avec succès.
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