Occasion EATON NOVA / AXCELIS NV 6200AV-MD #293829792 à vendre en France

ID: 293829792
Taille de la plaquette: 6"
Medium current ion implanter, 6" Cassete Standard specific layout Burned source Source analyzer magnet Scanning system-single wafer Beam energy configuration: Beam energy: 0 ~ 180 keV Extraction mode: 0 ~ 20 keV Acceleration mode: 20 ~ 180 keV Vacuum pump system: Diff pump: VHS6 Cryo pump (beam line and chamber): CTI-8 Wet pump: ETM40, ET18, RV8, EH-250 Cryo compressor: CTI9600 Gas / Model / MFC Type PH3 / MFC / SDS BF3 / MFC / Standard Ar / MFC / Standard.
EATON NOVA/AXCELIS NV 6200AV-MD est un implant et un moniteur ionique de pointe conçu pour répondre aux exigences exigeantes de l'industrie des semi-conducteurs. Cet équipement de pointe allie précision, efficacité et flexibilité pour fournir des processus d'implantation ionique de haute qualité pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Au cœur d'AXCELIS NV 6200AV-MD se trouve sa source d'ions, qui génère un faisceau d'ions pouvant être précisément contrôlé et dirigé vers le substrat cible. Le système est capable d'implanter un large éventail d'espèces d'ions, y compris le bore, l'arsenic, le phosphore, et d'autres, permettant la création de profils dopants avec une grande précision et précision. L'une des caractéristiques clés d'EATON NOVA NV 6200AV-MD est sa ligne de faisceau avancée, qui comprend une optique de précision et des composants de direction de faisceau qui permettent un positionnement précis du faisceau d'ions sur la surface cible. Ce niveau de contrôle est essentiel pour atteindre les profils de dopage et les caractéristiques du dispositif recherchés dans la fabrication de semi-conducteurs. La machine est équipée d'une gamme d'options énergétiques d'implantation, permettant aux utilisateurs d'adapter le faisceau d'ions aux exigences spécifiques de leur processus. Qu'il s'agisse d'implants peu profonds ou profonds, NV 6200AV-MD offre la flexibilité nécessaire pour optimiser les performances et le rendement du dispositif. En plus de ses capacités d'implantation ionique, EATON NOVA/AXCELIS NV 6200AV-MD dispose également de systèmes complets de surveillance et de contrôle pour assurer la stabilité et la répétabilité des processus. La surveillance en temps réel du courant de faisceau, le contrôle de l'énergie et la surveillance du profil de faisceau ne sont que quelques-uns des outils dont disposent les opérateurs pour maintenir un contrôle serré des processus et obtenir des résultats de haute qualité. L'outil est conçu avec facilité d'utilisation, avec une interface utilisateur intuitive qui permet aux opérateurs de programmer des recettes d'implantation, de surveiller les paramètres de processus et d'analyser les données avec facilité. Cette approche conviviale simplifie le processus d'implantation et réduit le risque d'erreurs, ce qui finit par améliorer la productivité et le temps de mise sur le marché pour les fabricants de semi-conducteurs. En outre, AXCELIS NV 6200AV-MD est construit avec fiabilité et disponibilité, avec une construction robuste et des capacités diagnostiques avancées pour minimiser les temps d'arrêt et maximiser la disponibilité des actifs. Les routines régulières de maintenance et de service sont soutenues par les fonctions de surveillance et de diagnostic du modèle, garantissant que l'équipement fonctionne à un rendement maximal avec des interruptions minimes. Dans l'ensemble, EATON NOVA NV 6200AV-MD établit une nouvelle norme pour la technologie d'implantation ionique dans l'industrie des semi-conducteurs, offrant des performances, une flexibilité et une fiabilité inégalées pour un large éventail de processus d'implantation. Avec ses caractéristiques avancées et son design convivial, ce système est prêt à stimuler l'innovation et l'excellence dans la fabrication de semi-conducteurs pour les années à venir.
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