Occasion EATON NOVA / AXCELIS NV 8200 #9409485 à vendre en France

EATON NOVA/AXCELIS NV 8200 est un nouvel équipement polyvalent d'implantation et de surveillance ionique conçu pour les applications de traitement des semi-conducteurs les plus exigeantes. Il est capable de fournir des performances d'implantation ionique supérieures, ainsi que des capacités de surveillance très précises et fiables. La source d'ions perforés à grande surface (LAPIS) se trouve au cœur du système de NV 8200, offrant des performances d'implantation ionique supérieures. Le LAPIS permet un débit élevé et une dose uniforme sur de grandes surfaces. Il permet également un meilleur contrôle de l'uniformité spatiale et un contrôle optimisé des processus. L'unité dispose également d'une machine de commande de déflecteur plein champ haute résolution et haute précision, permettant de diriger le faisceau avec précision, tout en minimisant l'impact de la déflexion sur l'uniformité globale du faisceau. Cet outil permet de mieux contrôler l'uniformité spatiale et d'optimiser la distribution des doses tout au long du processus d'implantation. La NovaEATON NOVA NV 8200 présente aussi une haute précision, monochromator-tapez le moniteur d'ion, qui offre la stabilité supérieure et l'exactitude. Cela permet un contrôle précis du processus implant et fournit un haut niveau d'uniformité de dose et de contrôle. En outre, l'actif est équipé d'une chambre à vide en boucle fermée, contrôlée par la température, qui fournit des conditions de fonctionnement supérieures et maintient l'uniformité du faisceau. La chambre est très isolée des changements de température ambiante, minimisant ainsi les changements de caractéristiques du faisceau. En outre, le modèle comporte plusieurs autres caractéristiques telles qu'un régulateur de hauteur à actionnement électrique à haute performance, qui permet un réglage rapide et précis de la hauteur de la source, et un manipulateur de ligne de faisceau réglable en champ, qui permet un réglage rapide et précis de l'angle de faisceau et/ou de l'angle d'incidence. Dans l'ensemble, le NV 8200 est un équipement polyvalent et polyvalent d'implantation et de surveillance ionique conçu pour fournir des performances supérieures et des capacités de surveillance fiables. Ses caractéristiques en font un choix idéal pour les applications exigeantes de traitement des semi-conducteurs.