Occasion EATON NOVA / AXCELIS NV 8200P #293646149 à vendre en France
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Vendu
ID: 293646149
Taille de la plaquette: 6"
Ion implanter, 6"
Transformer
Injector:
Bernase ion source with dual vaporizer
Single stage extraction, 15-40 kV
Dipole magnet, 90°
Target postioning / scanning system:
Parallel beam
Electrostatic angle correction
Programmable tilt, 0°-60°
Endstation:
Electrostatic silicon wafer chuck, 6"
Flat / notch alignment with buffer cassette
3-Axis robotic pick and place system
Vacuum system:
LEYBOLD HERAEUS TMP 1000C
LEYBOLD HERAEUS TMP 600C
LEYBOLD HERAEUS TMP 151C
CTI-CRYOGENICS Cryo-Torr, 8"
(3) Turbo controllers
Roughing pump:
LEYBOLD HERAEUS D40B Rotary vane
LEYBOLD HERAEUS D40BCS
EDWARDS iQDP40 Dry pump
EDWARDS EH250 Blower
Gas bottle enclosure:
MFC
VCR Fittings
Does not include: Chillers, Helium compressor.
EATON NOVA/AXCELIS NV 8200P est un équipement avancé d'implantation et de surveillance d'ions utilisé dans l'industrie de la microélectronique. Ce système est conçu pour créer des structures d'appareils très précises et précises, qui sont essentielles pour les composants électroniques de plus en plus complexes d'aujourd'hui. L'implant ionique AXCELIS NV-8200P est construit sur une plate-forme extensible conçue pour répondre à un débit de processus plus élevé et une précision accrue. Il intègre les dernières technologies de la technologie beamline pour obtenir une gravure à faible perte et une distribution uniforme des implants. La conception simplifiée de la ligne de faisceau permet également de réduire les temps d'arrêt et d'augmenter la longévité de l'unité. EATON NOVA NV 8200 P est capable d'implanter un contrôle de l'angle et de la profondeur qui offre une plus grande flexibilité et précision dans le processus d'implantation. Il peut être utilisé pour implanter une variété de matériaux ainsi que des niveaux de dose différents. Il fournit également une gamme de paramètres de processus tels que le courant de faisceau, les énergies ioniques, les tensions d'accélération et les directions, ce qui en fait l'un des systèmes d'implantation les plus flexibles disponibles. Le moniteur EATON NOVA NV 8200P fournit une rétroaction en temps réel à l'utilisateur avec l'utilisation de son mécanisme d'extraction de faisceau in situ. La machine mesure la vitesse de dépôt, la plage ionique, l'épaisseur réfléchie, le courant de faisceau et l'énergie de l'implant donnant à l'utilisateur un meilleur contrôle sur le procédé. Il peut également détecter des événements critiques qui aident à prévenir les dommages aux produits pendant l'implantation. AXCELIS NV 8200P est un outil leader d'implantation et de surveillance ionique qui offre une précision et une répétabilité inégalées dans la création de structures d'appareils pour l'industrie de la microélectronique. Ses caractéristiques avancées et son design robuste en font un choix idéal pour ceux qui cherchent à créer des produits de haute qualité avec un contrôle de qualité encore plus élevé.
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