Occasion EATON NOVA / AXCELIS NV 8200P #9402498 à vendre en France

EATON NOVA/AXCELIS NV 8200P est un implant et un moniteur ionique de pointe. Cet implanteur et moniteur ionique particulier est utilisé pour implanter des ions dans un substrat semi-conducteur qui peut ensuite être utilisé pour modifier et améliorer les caractéristiques électriques du matériau semi-conducteur. Comme son nom l'indique, le NOVAAXCELIS NV-8200P est alimenté par une source d'ions AXCELIS haute performance et haut de gamme. La source d'ions Nova est conçue pour être très efficace et est capable de générer des courants et des fluences de faisceau élevés tout en minimisant les déchets grâce à l'application de techniques avancées d'optimisation du faisceau d'ions. EATON NOVA NV 8200 P dispose également d'un système de moniteur avancé qui comprend un moniteur temps réel intégré, un moniteur de distribution de particules et un spectromètre dispersif d'énergie. Cette combinaison d'instruments permet un contrôle précis de la composition et des caractéristiques du faisceau, ce qui permet un réglage et une optimisation précis de l'implant ionique. Le NOVAAXCELIS NV 8200 P est équipé d'une large gamme de capacités de processus. Il est capable de produire et de contrôler des implants de bore, de phosphore et d'arsenic ainsi que des implants d'azote et d'oxygène. Il est également capable de produire une large gamme d'implants allant du peu profond à la jonction et à la profondeur. De plus, il est capable d'exécuter une variété de formes d'impulsions telles que des ondes carrées et des formes d'ondes triangulaires, permettant l'implantation d'une large gamme de doses dans le substrat semiconducteur cible. En plus des capacités d'implantation et de surveillance du NOVAAXCELIS NV 8200P, le système comprend également des outils d'alignement intégrés qui peuvent aider à assurer un étalonnage précis du système ainsi qu'un alignement optimisé de balayage qui est essentiel pour obtenir des rendements d'implants élevés. EATON NOVA NV-8200P est un implant et un moniteur ionique très sophistiqué et innovant. Sa combinaison de sources d'ions avancées, de processus, de moniteurs et d'outils d'alignement en font un outil puissant pour l'implantation d'ions, permettant un contrôle précis et l'optimisation des paramètres des implants tout en minimisant les déchets. Cet implant et moniteur ionique très polyvalent et puissant est un outil essentiel pour de nombreuses applications, y compris la fabrication de dispositifs haut de gamme et la recherche sur les semi-conducteurs.