Occasion EATON NOVA / AXCELIS NV 8250 #293595676 à vendre en France
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ID: 293595676
Style Vintage: 2000
Implanter
Vacuum system:
CTI-CRYOGENIC 9600 Cryo compressor
OB 8 Beam line cryo pump
(2) OB 8 Process cryo pumps
STP1003C Source pump
STP301C Beam line turbo pump
STP1003C Beam line turbo pump
Vacuum controller: HCIG
End-station:
(2) Cassettes capability
Wafer size: 8"
Wafer notch alignment: Automatic notch alignment capability
Wafer handling system: In-air / In-vacuum high throughput
Particle filter system: Class 1, UPLA Filtered wafer handling system
Implant angle capability:
Quad implant
Real-time beam profiler (Single dimension)
Tilt axis: 45°
Twist axis: 360°
Beam monitoring system: Real-time patented dose control
Chuck: Electro-static clamp
Chuck cooling interlock
ASYST LPT 2200 SMIF Interface
Chiller
E-Clamp
E-Shower controller and power supply unit
Flag faraday relay box
Beam profiler card include external box
DSP Motor controller
CP1 Pump
Dosimetry frame include side cup and P-Cup
Cell controller
Aligner assembly
CPU
Tx Arm include pneumatic assy
Oscilloscope
FFU
Terminal:
Four string gas box:
Gas box option: Modular gas box
High pressure string
(2) SDS String hydride: Arsine and phosphine
SDS String fluoride: Boron trifluoride
(3) Pressure transducer on SDS string (Per string): PSIA
Mass flow controller:
UNIT 1660
(3) UNIT 1662
Extraction voltage monitor: 0-40 keV
Vaporiser:
Ion source: ETERNA Extended Life Source (ELS)
Source bushing: Extended life bushing
Extraction electrode: (3) Axis extraction electrode
AMU System: Triple indexed mass analysis magnet and power supply
Beam shutter
Beam line quads beam focus and scanner
P-Lens power supply: 0-68 keV
Decel power supply: 0-40 keV
Accel power supply: 0-142 keV
Terminal transformer: Oil-cooled transformer
Angular energy filter
Energy slit
Beam profiler with P-cup
Flag faraday with side cups
Cathode power supply unit
Filament power supply unit
Arc power supply unit
Source controller
(3) Turbo pump include controller / Harness
Ext electrode assy
Source and cooling flange
Source magnet power supply unit
High resolution scanner scan generator DI
AMU Power supply unit
Terminal PD DI
Beam Shutter DI: Dose DI
Terminal beam line DI: General IO DI
Gas box DI
Ground interface DI: Terminal DI
Disk thermocouple DI: TC Di
(4) IG Controllers and cables
HV Supply power supply unit
Extraction power supply unit
Quad power supply unit
Right scan amplifier
Digital tesla meter
Scan suppression power supply unit
Accel power supply unit
Decel power supply unit
AEF power supply unit
Charge control technology: E-Shower
NESLAB / AFFINITY Chiller
Control UPS:
Main isolation transformer
Smoke detector
Exhaust flow switch
Water leakage sensor
Light tower
SECS I and SECS II Protocols
GEM Interface
Ethernet ports
IG and TC Gauge
2000 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS NV 8250 est un puissant implant et moniteur ionique conçu pour faciliter des processus d'implantation ionique de haute précision et de haute qualité. L'équipement a une conception sophistiquée qui offre une excellente précision, répétabilité et robustesse. L'implantation ionique est réalisée avec deux ensembles de colonnes concentriques. L'ensemble extérieur de colonnes est appelé chambre source et l'ensemble intérieur de colonnes est appelé chambre cible. La chambre source abrite la source d'ions et la chambre cible abrite les échantillons à implanter. En outre, le système dispose également d'une ligne de faisceau contrôlée par ordinateur, qui assure un contrôle précis du processus d'implantation ionique. L'implanteur ionique efficace et fiable est équipé d'un large éventail de caractéristiques qui améliorent la précision et la productivité. L'unité est capable d'automatiser toutes les opérations essentielles dans le processus d'implantation ionique, y compris les paramètres de la chambre source et de la chambre cible, l'émittance et le balayage des faisceaux. En outre, la machine dispose également d'un mécanisme sophistiqué de détection d'erreurs, qui peut détecter des problèmes avant qu'ils ne causent des erreurs dans le processus d'implantation. AXCELIS NV 8250 dispose également de méthodes de diagnostic avancées qui garantissent la stabilité de l'outil en termes de stabilité énergétique et de précision des paramètres du faisceau. L'atout est particulièrement utile pour réaliser des implants avec une grande précision, répétabilité et robustesse. Il dispose également d'une interface conviviale qui permet aux utilisateurs de surveiller et de contrôler facilement le processus d'implantation ionique. Enfin, EATON NOVA NV 8250 est conçu pour un fonctionnement fiable à long terme et offre une gamme d'avantages tels qu'une meilleure qualité des implants, un meilleur débit et des temps de cycle réduits. Cela en fait un excellent choix pour les utilisateurs qui nécessitent des implantateurs d'ions de haute qualité et des moniteurs pour leurs applications.
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