Occasion EATON NOVA / AXCELIS NV 8250 #293595700 à vendre en France

EATON NOVA/AXCELIS NV 8250 est un appareil d'implantation et de surveillance ionique utilisé pour le traitement des semi-conducteurs et des couches minces. Le système se compose d'un canon à ions et d'un moniteur électronique. Le canon à ions produit un faisceau d'ions, généralement de bore ou de phosphore, qui est utilisé pour déposer des dopants dans les couches minces, tandis que le moniteur d'électrons mesure le courant du faisceau résultant. L'unité a une large plage de tension opérationnelle de 6 à 12 keV et peut fonctionner en continu ou en impulsions. Il est équipé d'un déflecteur qui contrôle l'angle et la largeur du faisceau, ainsi que d'un générateur de Faraday qui mesure le courant de Faraday du faisceau pour déterminer la concentration en dopant des couches minces. En outre, la machine est très tolérante aux défauts et intègre des autodiagnostics pour détecter tout dysfonctionnement, permettant un entretien rapide et facile. L'outil utilise une variété de films minces (ZnS, TiN, SiC, etc.). Le matériau source, typiquement une plaquette, est placé dans le porte-source, et peut être ajusté pour la taille, l'épaisseur et l'inclinaison. Les paramètres du faisceau tels que la taille de la tache du faisceau, le courant et l'énergie peuvent être ajustés, et le faisceau peut être dévié selon différents angles pour assurer une couverture uniforme de la surface de la plaquette. Les faisceaux d'ions sont guidés à travers un réseau de lentilles électrostatiques, permettant d'ajuster finement la taille de la tache du faisceau. L'actif est également équipé d'un certain nombre de dispositifs de sécurité qui protègent à la fois l'opérateur et l'équipement. Le modèle comprend un équipement de rinçage d'urgence qui coupe automatiquement la puissance lorsqu'une anomalie est détectée. De plus, le support de source est entouré d'un boîtier blindé, ce qui réduit l'exposition de l'opérateur à tout rayonnement dangereux. AXCELIS NV 8250 est un système d'implantation et de surveillance d'ions très avancé, permettant un dépôt dopant précis et fiable sur des couches minces pour le traitement des semi-conducteurs et des couches minces. Avec ses paramètres très réglables et sa gamme de caractéristiques de sécurité, l'unité peut aider les opérateurs à obtenir des résultats cohérents et fiables.