Occasion EATON NOVA / AXCELIS NV 8250HT #9366390 à vendre en France
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ID: 9366390
Style Vintage: 2000
Implanter
Vacuum system:
CTI-CRYOGENIC 9600 Cryo compressor
OB 8 Beam line cryo pump
(2) OB 8 Process cryo pumps
STP1003C Source pump
STP301C Beam line turbo pump
STP1003C Beam line turbo pump
Vacuum controller: HCIG
End-station:
Cassette capability: 2-Cassette
Wafer size: 8"
Wafer notch alignment: Automatic notch alignment capability
Wafer handling system: In-air / In-vacuum high throughput
Particle filter system: Class 1, UPLA Filtered wafer handling system
Implant angle capability:
Quad implant
Real-time beam profiler (Single dimension)
Tilt axis: 45°
Twist axis: 360°
Beam monitoring system: Real-time patented dose control
Chuck: Electro-static clamp
Chuck cooling interlock
ASYST LPT 2200 SMIF Interface
Chiller
E-Clamp
E-Shower controller and power supply unit
Flag faraday relay box
Beam profiler card include external box
DSP Motor controller
CP1 Pump
Dosimetry frame include side cup and P-Cup
Cell controller
Aligner assembly
CPU
Tx Arm include pneumatic assy
Oscilloscope
FFU
Terminal:
Four string gas box:
Gas box option: Modular gas box
High pressure string
(2) SDS String hydride: Arsine and phosphine
SDS String fluoride: Boron trifluoride
(3) Pressure transducer on SDS string (Per string): PSIA
Mass flow controller:
UNIT 1660
(3) UNIT 1662
Extraction voltage monitor: 0-40 keV
Vaporiser
Ion source: ETERNA Extended Life Source (ELS)
Source bushing: Extended life bushing
Extraction electrode: (3) Axis extraction electrode
AMU System: Triple indexed mass analysis magnet and power supply
Beam shutter
Beam line quads beam focus and scanner
P-Lens power supply: 0-68 keV
Decel power supply: 0-40 keV
Accel power supply: 0-142 keV
Terminal transformer: Oil-cooled transformer
Angular energy filter
Energy slit
Beam profiler with P-cup
Flag faraday with side cups
Cathode power supply unit
Filament power supply unit
Arc power supply unit
Source controller
(3) Turbo pump include controller / Harness
Ext electrode assy
Source and cooling flange
Source magnet power supply unit
High resolution scanner scan generator DI
AMU Power supply unit
Terminal PD DI
Beam Shutter DI: Dose DI
Terminal beam line DI: General IO DI
Gas box DI
Ground interface DI: Terminal DI
Disk thermocouple DI: TC Di
(4) IG Controllers and cables
HV Supply power supply unit
Extraction power supply unit
Quad power supply unit
Right scan amplifier
Digital tesla meter
Scan suppression power supply unit
Accel power supply unit
Decel power supply unit
AEF power supply unit
Charge control technology: E-Shower
NESLAB / AFFINITY Chiller
Control UPS
Main isolation transformer
Smoke detector
Exhaust flow switch
Water leakage sensor
Light tower
SECS I and SECS II Protocols
GEM Interface
Ethernet ports
IG and TC Gauge
2000 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS NV 8250HT est un implant ionique utilisé dans les procédés de fabrication de semi-conducteurs. Cet outil est un implanteur ionique à haute énergie, à haut débit et de diamètre moyen. Il est utilisé pour implanter différents types d'ions dans des substrats matériels pour la fabrication de composants électriques ou électroniques. AXCELIS NV 8250HT est équipé d'un écran GaAs haute performance de 30 keV qui permet d'obtenir des profils d'implants focalisés, un meilleur débit de substrat et une meilleure fiabilité des processus. Un capteur optique intégré à haute résolution est utilisé pour surveiller le faisceau d'ions afin d'assurer une surveillance précise des implants. Le EATON NOVA NV 8250 HT dispose d'un équipement de contrôle de chambre IntelliSantéMC avancé qui permet une manipulation précise du faisceau et un contrôle de faisceau d'ions. Ce contrôle précis du faisceau d'ions permet à la fois l'implantation et le contrôle d'une large gamme d'espèces d'ions, y compris le bore et le phosphore. En outre, NV 8250HT est équipé de sept positions cibles interchangeables pour des méthodes d'implantation précises pour divers matériaux. Les chambres peuvent également être utilisées pour augmenter l'uniformité de l'implantation ionique. EATON NOVA NV 8250HT utilise un système de transport de faisceaux magnétiques à six étages et un étage de préaccélération 50kV. Il est doté d'une unité de mesure intégrée à haute tension et à faible courant qui assure un contrôle précis du faisceau d'ions. EATON NOVA/AXCELIS NV 8250 HT dispose également d'une machine avancée de surveillance du courant ionique en boucle fermée avec une boucle de rétroaction adaptative qui ajuste les niveaux de courant ionique afin de tenir compte de diverses conditions de substrats et d'implants. AXCELIS NV 8250 HT est conçu pour travailler avec une variété de matériaux implants, y compris le bore, le phosphore, l'arsenic et les silicures. Il peut être utilisé à la fois pour des applications d'implantation à dose unique et par lots/à dose continue. L'implanteur ionique est équipé d'une interface utilisateur graphique (GUI) de Fluof, qui fournit une rétroaction en temps réel sur le processus de l'implant et permet un suivi en temps réel des conditions de l'implant. De plus, le NV 8250 HT est conçu pour un entretien facile et un fonctionnement efficace, ce qui réduit les temps d'arrêt et les coûts d'entretien. EATON NOVA/AXCELIS NV 8250HT est un implanteur ionique fiable et polyvalent qui peut être utilisé pour diverses applications d'implantation de haut volume et de haute précision. Il est conçu pour fournir aux utilisateurs un processus d'implantation précis et efficace avec un meilleur débit, une plus grande uniformité et une meilleure fiabilité.
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