Occasion EATON NOVA / AXCELIS NV GSD 200 #293721218 à vendre en France

EATON NOVA/AXCELIS NV GSD 200 est un équipement d'implantation et de surveillance ionique conçu pour la production de semi-conducteurs IC avancés. Il est capable d'implanter un faisceau d'ions avec une très grande précision et répétabilité dans la plaquette de silicium. Le système utilise une alimentation haute tension pour générer un faisceau d'ions de 1 à 5kV et un courant de faisceau d'ions pouvant atteindre 10mA. Le faisceau est ensuite focalisé et dirigé par l'unité de balayage et d'analyse de précision (PS&PU), qui assure que le faisceau d'ions est toujours dans la position et l'intensité souhaitées. De plus, l'unité est équipée d'un détecteur de particules pour mesurer les paramètres de l'implant, tels que la densité du courant, la taille du faisceau et le débit de dose. De plus, la machine intègre un outil de contrôle avancé qui permet des résultats optimaux du processus d'implantation. AXCELIS NV GSD 200 est un actif automatisé qui garantit une implantation rapide et précise en utilisant une alimentation RF pour produire le niveau d'énergie approprié pour chaque lot. De plus, le modèle assure des temps de réponse rapides avec un temps de mise en place minimal avant l'implantation d'un lot de plaquettes. Le haut débit est également assuré avec 9-15 plaquettes en un seul cycle de processus. L'équipement intègre un design de cadre compact avec une taille totale de 2,8 m x 3,3 x 2,2 m (LxWxH) qui le rend idéal pour l'installation dans les installations de production modernes. En outre, il est équipé d'un processeur de signal numérique (DSP) et d'un logiciel embarqué qui permet un contrôle et un fonctionnement rapides et fiables de l'unité. Pour garantir une implantation fiable et répétable, la machine est capable de contrôler les paramètres du processus avec une grande précision et précision. Les paramètres du processus tels que la tension de l'implant, l'énergie du faisceau et le débit de dose d'implantation sont réglables. A titre de sécurité supplémentaire, l'outil comprend également un atout de protection automatique qui éteint la haute tension et le faisceau ionique de ce modèle lors d'une panne de courant, garantissant une protection totale contre tout dommage de rayonnement. EATON NOVA NV-GSD-200 est un équipement d'implantation et de surveillance avancé et fiable qui offre une flexibilité et une répétabilité maximales du processus. Il permet l'implantation d'ions avec une très grande précision et répétabilité, permettant une production efficace, rentable et fiable des IC semi-conducteurs avancés. En outre, grâce au système de contrôle avancé et à l'unité de protection, la machine garantit la sécurité et la qualité globale de tous les implants.