Occasion EATON NOVA / AXCELIS NV GSD 200 #293817965 à vendre en France

EATON NOVA/AXCELIS NV GSD 200 est un implant ionique haute performance et moniteur. Cet outil de pointe permet une implantation précise, fiable et précise des espèces d'ions dans les substrats semi-conducteurs. L'implant ionique GSD 200 est conçu pour traiter une grande variété de matériaux allant des plaquettes au graphème, en passant par les films métalliques, les nanofils et d'autres matériaux nanostructurés. L'implant ionique dispose d'un système de chauffage personnalisable, permettant aux utilisateurs de régler la température précise nécessaire à une implantation efficace. Ses capacités de tension plus élevées permettent un traitement facile des nanostructures avec des étalement d'énergie de faisceau d'ions plus importants, obtenant ainsi une précision d'implantation plus élevée. Son architecture multi-zones en cage Faraday offre une protection contre les champs électriques et magnétiques étrangers ainsi qu'une meilleure focalisation des faisceaux d'ions. Les capacités de surveillance du GSD 200 offrent un contrôle fiable et précis des processus pour une meilleure cohérence des processus et une meilleure surveillance des doses implantées. Le moniteur peut détecter des changements subtils dans les faisceaux d'ions entrants, fournissant une précision de pointage dans les doses implantées. L'interface de contrôle du GSD 200 possède une multitude de fonctionnalités avancées telles qu'une interface utilisateur graphique, une programmation macro et une multitude de scripts de processus récurrents. Le contrôle total du processus d'implantation permet une efficacité accrue et une livraison plus rapide des implants. Le GSD 200 offre également une homogénéité plasmatique supérieure et un contrôle de propagation à basse énergie. Il a une excellente régulation du faisceau dans le temps et contrôle de la direction du faisceau d'ions. Il permet également à l'utilisateur de configurer le système pour compenser les aberrations dans l'arrangement physique ou l'environnement sous vide. Le GSD 200 fournit à l'utilisateur une solution clé en main pour une variété de processus d'implantation. Avec sa conception robuste, sa grande applicabilité et ses fonctions de contrôle avancées, le GSD 200 est le choix privilégié pour l'implantation et la surveillance ionique.