Occasion EATON NOVA / AXCELIS NV-GSD 200D #9268035 à vendre en France

EATON NOVA/AXCELIS NV-GSD 200D est un équipement avancé d'implantation et de surveillance ionique utilisé pour l'implantation et le dopage de matériaux semi-conducteurs. Il est équipé d'une variété de caractéristiques, telles qu'un limiteur de champ intégré de haute précision, un régulateur thermique de température de type arrhenius buttstrap, et un protecteur de tuyère de gaz qui aident à assurer un dopage précis et efficace. Le système dispose également d'une source d'ions à énergie variable, pour assurer un dosage répétable tout au long du processus de dopage. AXCELIS NV-GSD 200D offre une large gamme de modes de fonctionnement, chacun intégrant un ensemble spécifique de paramètres, permettant un contrôle précis et précis de l'implantation et du dopage des matériaux semi-conducteurs. L'unité dispose également d'une machine d'accélération à deux étages unique, qui permet une pénétration de dose plus rapide et uniforme, tout en assurant le contrôle des paramètres d'accélération. De plus, l'outil de surveillance avancée de la santé des filaments et de rétroaction assure que tout désalignement ou fluctuation est rapidement détecté et corrigé. EATON NOVA NV-GSD 200D dispose également de capacités intégrées d'enregistrement de données de modèle, permettant aux utilisateurs de suivre la posologie et la progression du processus d'implantation/dopage en temps réel. Grâce à ces rapports, les utilisateurs peuvent facilement évaluer l'uniformité de l'implantation, la dose totale et les temps de traitement, en s'assurant que le processus est terminé dans des conditions optimales. De plus, les paramètres d'enregistrement des données peuvent être personnalisés en fonction des besoins individuels, ce qui permet de gérer de grandes quantités de données d'implantation sur de longues périodes. Enfin, NV-GSD 200D dispose de contrôles intuitifs de l'utilisateur. Grâce à une interface graphique facile à utiliser, les utilisateurs peuvent accéder et modifier rapidement tous les paramètres et paramètres du système. Cela contribue à simplifier le fonctionnement de l'équipement, et permet même aux utilisateurs novices d'obtenir les résultats d'implantation et de dopage souhaités. Dans l'ensemble, EATON NOVA/AXCELIS NV-GSD 200D est un système d'implantation puissant qui aide les utilisateurs à obtenir une précision et une répétabilité exceptionnelles tout en implantant et en dopant une grande variété de matériaux semi-conducteurs. Il est équipé d'une variété de fonctionnalités qui permettent aux utilisateurs de contrôler en toute confiance les paramètres de charge, d'accélération, de suivi, de température et de pression du processus, ce qui donne des résultats supérieurs et uniformes. Cette unité est fortement recommandée pour les entreprises qui comptent sur la précision et la répétabilité du processus d'implantation/dopage.