Occasion EATON NOVA / AXCELIS NV GSD 200E #162060 à vendre en France
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Vendu
ID: 162060
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1996
High current ion implanter, 8"
With turnkey base
Specifications:
(25) Slots cassette
(4) cassettes capacity
ELS source head
(2) SUN Workstations
VME 177 cell controller
(2) SDS gas lines (ASH3 and PH3)
(2) HEWLETT-PACKARD Gas lines (BF3 and ARGON)
P-SHOWER Electron shower
Post acceleration high voltage, 80 KEV
Belt type rotary drive
AFFINITY Disk chiller
Variable implant angle, 2-Axis
Real time patented dose controller
STP H2000C Source turbo pump
Cryo pumps:
0B-8F P2
0B-10F P3
Compressor: 8200/8510
Monitor type: CRT
Standard GSD air robot
Power:
Total energy: 180 KEV
5E11~1E16 Ions/cm2 dose range
Throughput: 210 pieces/hour
1996 vintage.
EATON NOVA/AXCELIS NV GSD 200E Ion Implanter & Monitor est un implanteur ionique haute performance avancé capable d'implantations de haute précision et de grande surface qui peut manipuler une variété de matériaux. Il dispose d'un design fiable et robuste et est équipé d'une large gamme de dispositifs de sécurité pour garantir un fonctionnement toujours sûr. AXCELIS NV-GSD-200E est alimenté par une source de courant continu haute tension et est capable de produire des faisceaux à faible émission pouvant atteindre 10 kW d'énergie. Son contrôle précis du faisceau et ses systèmes de réglage précis assurent une répartition dopante cohérente et un alignement précis du faisceau. Le dispositif intègre également un contrôle automatisé des processus et une suite complète de diagnostics, contribuant à simplifier les opérations et à garantir des performances précises. Cet implant ionique est conçu pour la fabrication de semi-conducteurs et offre une large gamme d'énergies d'implantation, une large gamme de courants de faisceau disponibles, et des types d'ions pouvant être utilisés pour différentes applications. Il dispose de capacités de positionnement haut de gamme pour une implantation précise et d'un équipement de surveillance du courant du faisceau à haute résolution qui permet de contrôler en temps réel la dose de l'implant. Le dispositif dispose également de commandes électroniques sophistiquées pour assurer une dose et un alignement précis et une manipulation fiable du substrat. Le dispositif est protégé par un couvercle de sécurité e-faisceau pour éviter les dommages aux matériaux de l'implant et pour assurer la radioprotection pendant le processus. EATON NOVA NV-GSD 200E dispose également d'un système de contrôle thermique avancé, lui permettant de rester à une température constante lors de coupures de courant temporaires et d'autres changements dans les conditions ambiantes. Il a une construction rigide et légère, ce qui le rend idéal pour une variété d'applications industrielles et scientifiques. Une maintenance facile et des instructions claires rendent le GSD 200E facile à utiliser et à entretenir. En outre, il peut être intégré avec d'autres équipements, assurant un flux de travail harmonieux et une efficacité unitaire maximale. NV GSD-200E Ion Implanter & Monitor est une machine avancée et fiable pour effectuer des implantations précises et de grande surface à diverses énergies. Il offre une large gamme de caractéristiques de sécurité et peut être intégré à d'autres systèmes, ce qui en fait un choix idéal pour des applications industrielles et scientifiques.
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