Occasion EATON NOVA / AXCELIS NV GSD A 160 #293610571 à vendre en France

ID: 293610571
Taille de la plaquette: 6"
Implanter, 6" Bernas source type SEIKO SEIKI STP-2000C Turbo pump (2) EBARA 40X20 Dry pumps Compressor: CTI 8200 / CTI 8510 NESLAB HX-150 Disk chiller E-Shower gun Rotary motor: Belt drive Flat finder Without coating disk Secondly sun Beamline Post-Accel Bias aperature Cyro pump: CTI Torr-08 CTI Torr-10 Gas type: Gas 1: AR/SDS (HP, SDS, External) Gas 2: ASH3/SDS (HP, SDS, External) Gas 3: PH3/SDS (HP, SDS, External) Gas 4: BF3/SDS (HP, SDS, External).
EATON NOVA/AXCELIS NV GSD A 160 est un implant et un moniteur ionique de pointe conçu pour répondre aux exigences les plus avancées des procédés de fabrication de semi-conducteurs. C'est l'équipement d'implantation le plus complet disponible dans l'industrie et offre de nombreux avantages par rapport à d'autres systèmes. Le système offre une mesure de courant ionique analogique 16 bits à grande vitesse qui permet une imagerie haute résolution et permet une implantation ionique précise et des périmètres d'implants optimisés (OIP). AXCELIS NV-GSD-A-160 est équipé d'une plate-forme haute tension réglable et d'un support de substrat rectangulaire de 1,87 mètre de long avec 2 axes de faisceau évolutifs, permettant une implantation biaisée précise. EATON NOVA NV GSD-A-160 offre également un ensemble complet d'outils de diagnostic et d'instruments de mesure pour évaluer la performance du processus. Le NV GSD A 160 a trois caractéristiques principales : une unité d'imagerie haute résolution, une plate-forme haute tension et une machine d'implantation à deux axes. L'outil d'imagerie est composé d'une puce CCD à résolution de 100 microns et d'une optique de direction de coin avancée qui permettent d'obtenir les aperçus d'implantation ionique les plus détaillés. Il offre également une capacité OIP qui peut être utilisée pour contrôler avec précision les distributions de dose et d'énergie. La plate-forme haute tension est capable de fonctionner jusqu'à 50 kilo-volts et fournit un bon degré de contrôle lors de l'utilisation de faisceaux ioniques plus grands. L'actif d'implantation à deux axes permet d'implanter quatre axes d'ions à la fois, chaque ensemble de quatre axes comprenant les axes x, y, z et thêta. Il est également livré avec le contrôle de mouvement complet et la surveillance du processus, fournissant un contrôle total sur le processus d'implantation. Enfin, NV-GSD-A-160 offre également un large éventail d'options de diagnostic et de surveillance. Il est équipé d'un modèle de gardien qui surveille tous les aspects de la performance matérielle et logicielle, ainsi que d'un outil IID (Ion Implant Diagnostics), qui peut être utilisé pour déterminer la configuration du faisceau d'ions et les niveaux d'énergie. L'équipement offre également un ensemble complet d'instruments de mesure et d'outils pour analyser le processus d'implantation. Dans l'ensemble, AXCELIS NV GSD A 160 est l'outil idéal pour réaliser des procédés avancés de fabrication de semi-conducteurs. Avec un système d'imagerie haute résolution, une plate-forme haute tension réglable, une unité d'implantation à deux axes et un ensemble complet d'outils de diagnostic, il fournit toutes les fonctionnalités nécessaires pour les implants complexes. En offrant une approche de contrôle total, EATON NOVA/AXCELIS NV-GSD-A-160 peut aider à donner à vos opérations de fabrication un avantage significatif.
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