Occasion EATON NOVA / AXCELIS NV-GSD-A-80 #9226069 à vendre en France

EATON NOVA/AXCELIS NV-GSD-A-80 est un outil de haute précision utilisé pour implanter des ions dans des matériaux semi-conducteurs. C'est un équipement entièrement automatisé qui peut être utilisé pour l'implantation d'une seule plaquette ou d'un lot. Le système dispose de technologies électroniques avancées et de vide, lui permettant de maintenir des niveaux élevés de précision et de précision tout en fournissant jusqu'à 80 kW d'énergie en un seul coup. C'est l'un des systèmes d'implantation les plus avancés disponibles sur le marché aujourd'hui. AXCELIS NV-GSD-A-80 dispose d'une unité de contrôle de pointe qui assure un contrôle complet des paramètres de l'implant, y compris l'énergie, le champ électrique, le débit d'ions, le type et le niveau de dopage, la taille des taches et le balayage progressif. Cela permet une implantation extrêmement précise d'une large gamme de matériaux utilisés dans la fabrication de semi-conducteurs. EATON NOVA NV-GSD-A-80 dispose également d'un obturateur automatique qui élimine le besoin de réglage manuel. L'outil est également équipé d'un outil de surveillance intégré et complet qui permet d'assurer la répétabilité du processus et les résultats de processus reproductibles. Ce modèle de surveillance comprend une gamme de capteurs pour fournir une rétroaction sur l'intensité du faisceau, le courant, la puissance, l'énergie, la tension, la température, le temps et d'autres paramètres. Il comprend également une interface graphique de surveillance avancée qui fournit une représentation visuelle des paramètres et permet un ajustement rapide si nécessaire. L'équipement d'implantation intégré ATI AXCELIS est également équipé d'un système de refroidissement sophistiqué qui aide à maintenir des températures optimales pour le processus d'implantation. Cette unité de refroidissement permet d'améliorer la précision et la répétabilité du processus d'implantation et contribue à réduire les temps d'arrêt. NV-GSD-A-80 est un outil polyvalent qui peut être utilisé pour diverses applications, y compris le dopage par jonction, le dopage par contact, le dopage par site épitaxié, la pulvérisation et le placage. Il est également bien adapté à une large gamme de matériaux, y compris le silicium, l'arséniure de gallium, le phosphure d'indium, et une variété d'autres matériaux utilisés dans la fabrication de semi-conducteurs. Dans l'ensemble, EATON NOVA/AXCELIS NV-GSD-A-80 est un implant et un moniteur ionique évolués, entièrement automatisés, conçu pour l'implantation de haute précision de divers matériaux semi-conducteurs. La machine offre des contrôles complets, un outil de surveillance intégré, un système de refroidissement sophistiqué et une interface graphique complète pour une analyse plus rapide des données. Cela permet de reproduire des résultats de traitement de haute qualité et d'améliorer le contrôle des processus.